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硅負極（納米硅、氧化亞硅、多孔硅）CVD氣相沉積碳包覆回轉(zhuǎn)爐
適用物料：納米硅、硅氧（氧化亞硅）、多孔硅
使用工況：CVD氣相沉積碳包覆（一次包覆、二次包覆）
均勻包覆碳含量：1.6%-22%（可控可調(diào)）
適用氣體：氮氣、氬氣、甲烷、乙炔、氨氣（丙酮、苯、乙醇、瀝青等）
公司備有多臺公斤級、百公斤級硅負極用cvd爐系統(tǒng)免費供客戶實驗用，公司目前已完成300+批次的硅負極cvd實驗，通過客戶反饋實驗數(shù)據(jù)不斷優(yōu)化cvd爐的設計。通過大量實驗積累了豐富的cvd經(jīng)驗。
暫無數(shù)據(jù)！
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