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納米二氧化硅拋光液
產品詳情
拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點：具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
應用范圍：納米氧化硅分散液具有粒徑小，溶度高，分散好等特點，用在拋光液中，以化學作用為主，添加螯合劑，活性劑，可以解決表面粗糙度，波紋度，表面缺陷等傳統(tǒng)問題，可以做光學鏡面拋光，寶石鏡面拋光等精密拋光。
拋光特點：具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
制備納米二氧化硅有哪幾種方法目前國內外制備納米二氧化硅的方法主要有物理法和化學法兩種。物理法一般采用高能球磨機或超聲波氣流磨機，將SiO2聚集體分多級粉碎，得到最終產品。產品粒徑一般為1-5μm。采用
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