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等離子體刻蝕制造器件過程中，有數(shù)個元件可用陶瓷材料制備。等離子體刻蝕的*片應放置在一個陶瓷支架上。為了避免支架上的晶體受到感染，該支架必須能夠完全抵擋等離子體侵入。另外，刻蝕設備的一個關鍵雪件是窗口遮擋裝置，用干傳輸電磁波，在產(chǎn)生等離子體的同時陰擋第四階段物質的侵入。
Nanoe基于上述兩項應用推出一種高純度氧化鋁材料，其中加入氧化釔，允許制作出足夠密度、能抵擋等離子體的工件。
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等離子刻蝕技術是在涂膠的晶圓上高效地復制掩膜圖形，通過化學和物理過程選擇性地從晶圓表面去除不需要的材料的一個重要工藝過程，是現(xiàn)代集成電路制造領域不可缺少的工藝步驟?？涛g機，來源：中微半導體隨著集成電路
等離子體刻蝕的工作原理介紹？等離子體刻蝕的使用方法？等離子體刻蝕多少錢一臺？等離子體刻蝕使用的注意事項等離子體刻蝕的說明書有嗎？等離子體刻蝕的操作規(guī)程有嗎？等離子體刻蝕的報價含票含運費嗎？等離子體刻蝕有現(xiàn)貨嗎？等離子體刻蝕包安裝嗎？
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