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產(chǎn)品概述

MProbe Vis薄膜測(cè)厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被MProbe Vis測(cè)厚儀測(cè)量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對(duì)二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。

測(cè)量范圍: 15 nm -50um

波長(zhǎng)范圍: 400 nm -1100 nm

MProbe Vis薄膜測(cè)厚儀適用于實(shí)時(shí)在線測(cè)量，多層測(cè)量，非均勻涂層， 軟件包含大量材料庫(kù)(超過(guò)500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz， EMA等。

測(cè)量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)

界面友好: 一鍵式測(cè)量和分析。

MProbe Vis薄膜測(cè)厚儀實(shí)用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測(cè)量，動(dòng)態(tài)測(cè)量和產(chǎn)線批量處理。

案例1，300nm二氧化硅薄膜的測(cè)量：

硅晶圓反射率，測(cè)量時(shí)間10ms：

案例2，測(cè)量500nm氮化鋁，測(cè)量參數(shù)：厚度和表面粗糙度