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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

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型號

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產地

遼寧

樣本

暫無
沈陽科晶自動化設備有限公司

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第3年

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產品簡介:GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀依據二極DC直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀操作視頻

產品型號

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備需選配自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)

4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上

5、通風裝置:不需要

主要特點

1、設有真空表、濺射電流表,可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。

2、通過調節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體,以獲得**鍍膜效果。

3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計,可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。

4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。

5、根據電場中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。

6、濺射頭采用Peltier制冷技術,可得到高性能、精細顆粒的涂層。

7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術參數

1、靶:?50mm

2、真空室:?160mm×120mm

3、**真空度:≤4×10-2mbar

4、**電流:50mA100mA

5、可設定*長時間:9999s

6、微型真空氣閥:連接?3mm軟管

7、**電壓:1600V DC

8、機械泵:2L/s

產品規(guī)格

尺寸:360mm×300mm×380mm

標準配件

1

金靶材

1

2

進氣針閥

1

3

保險絲

2

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材

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產品質量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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