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掃描型光學(xué)膜厚儀
掃描型光學(xué)膜厚儀

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FR-Scanner 掃描型光學(xué)膜厚儀主要由以下系統(tǒng)組成:

A)光學(xué)光源裝置

小型低功率混合式光源

本系統(tǒng)混合了白熾燈和LED燈,*終形成光譜范圍360nm- 1100nm;該光源系統(tǒng)通過(guò)微處理控制,光源平均壽命逾10000小時(shí);

集成小型光譜儀,光譜范圍360-1020nm,分辨精度 3648像素CCD 16 A/D 分辨精度.

集成式反射探針,6組透射光探針(200um),1組反射光探針,探針嵌入光源頭,可修整位置,確保探針無(wú)彎曲操作;

光源功率:3W;

B)超快掃描系統(tǒng),平面坐標(biāo)內(nèi),可進(jìn)行625次測(cè)量/分鐘 (8’’ wafer) 500次測(cè)量/分鐘(300mm wafer). 全速掃描時(shí),掃描儀的功率消耗不超過(guò)200W

樣品處理臺(tái):樣品處理尺寸可達(dá)300mm. 可滿(mǎn)足所有半導(dǎo)體工藝要求的晶圓尺寸。手動(dòng)調(diào)節(jié)測(cè)量高度可達(dá)25mm;配有USB通訊接口,功率:100 - 230V 115W.

C) FR-Monitor膜厚測(cè)試軟件系統(tǒng),

可精確計(jì)算如下參數(shù):

1)單一或堆積膜層的厚度;

2)靜態(tài)或動(dòng)態(tài)模式下,單一膜層的折射率;本軟件包含了類(lèi)型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫(kù),可以有效地協(xié)助用戶(hù)進(jìn)行線(xiàn)下或者在線(xiàn)測(cè)試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率,透射率和反射率的測(cè)量,還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜,一次使用授權(quán),即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測(cè)試后的結(jié)果分析使用。

D) 參考樣片:

a) 經(jīng)校準(zhǔn)過(guò)的反射標(biāo)準(zhǔn)硅片;

b) 經(jīng)校準(zhǔn)過(guò)的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片;

E) 附件

可定制適用于半導(dǎo)體工藝的任何尺寸的晶圓片(2, 3, 4, 5, 6, 200mm, 300mm)

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