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PLASMA-PREEN 微波級等離子清洗機是 一臺小型臺式設(shè)備，可以用來清洗和刻蝕。 PLASMA-PREEN 等離子清洗機系統(tǒng)融合了諸多工藝特點，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到了肯定。
產(chǎn)品特色
負載循環(huán)控制
模擬功率控制
處理機存儲
水冷底座
減少污水排放
安全保護設(shè)計
操作簡便 維護方便
適用工藝
打線墊清洗
清洗 Pd-Ag 裸芯片墊
清洗鍍金部件
環(huán)氧溢出物去除
去除光刻膠
清洗陶瓷基片
清洗玻璃部件
清洗光學(xué)部件
清洗半導(dǎo)體表面
塑膠密封劑去除--失效模式分析
塑料表面上膠處理
清洗鍍銀部件
減少金屬氧化物
去除油漬或是環(huán)氧殘留物
應(yīng)用范圍
混合電路板制造中基片的清洗
打線工藝前清洗電子部件，提高其可靠性
錫焊或焊接工藝前，關(guān)鍵性鍍金部件的清洗
清洗半導(dǎo)體元器件
光刻膠去膠
上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準備
鍍膜前對光學(xué)器件清洗
清洗石英、藍寶石及其它材料
微波級(2.45GHz)等離子處理的四大優(yōu)勢
A 極低自偏電壓，無損傷的溫柔工藝
B 高電子密度，處理效率更高；
C 艙體內(nèi)無內(nèi)置電極板，潔凈度更高
D 無紫外光輻射，操作更安全；
暫無數(shù)據(jù)！
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