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熱蒸發(fā)鍍膜機(Thermal Evaporator System)
熱蒸發(fā)鍍膜機(Thermal Evaporator System)

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美國

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上海載德半導體技術有限公司

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產(chǎn)地:美國;

型號:CAPOS

通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史*悠久的PVD鍍膜技術之一。蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、CuCr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。

技術規(guī)格特點:

- 基底尺寸:4英寸,6英寸,8英寸;

- 基底旋轉(zhuǎn):0~10rpm;

- 熱蒸發(fā)源:4英寸或6英寸熱蒸發(fā)舟,交流電源;

- 腔體:鋁合金或不銹鋼材料可供客戶選擇,不同尺寸的箱式腔室可選;

- 泵:機械泵,擴散泵或者分子泵,供客戶選擇;

- Load Lock樣品傳輸腔室:手動或自動傳輸,高真空,支持多種樣品襯底;

- 工藝控制:PC/PLC機制的自動控制,使用GUI進行工藝控制、數(shù)據(jù)處理、遠程支持;

- 原位監(jiān)控:石英晶振監(jiān)測(QCM),光學監(jiān)測,殘余氣體分析,其他原位監(jiān)測技術或控制;

- 襯底固定:單襯底固定,多襯底固定,行星式襯底固定,客戶化襯底固定方式;

- 襯底夾具:加熱,冷卻,偏置,旋轉(zhuǎn)等;

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