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等離子體分析飛行時間質譜儀PP-TOFMS
等離子體分析飛行時間質譜儀PP-TOFMS

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產(chǎn)地

法國

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天津東方科捷科技有限公司

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原理:

等離子體等離子體分析飛行時間質譜儀是一個全新的儀器,它結合了GD等離子體的濺射速度和飛行時間質譜的靈敏度,實現(xiàn)了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學深度剖析。

重點應用領域:

摻雜分析(半導體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態(tài)光源)

表面和整體污染鑒定(PVD鍍層、摩擦層、)

腐蝕科學和技術(示蹤物、標記監(jiān)測、同位素分析)

界面監(jiān)測

參數(shù):

采集速率:每30μs一張全質譜

質量分辨率:選擇高分辨率模式時,在m/z208可達5000

動態(tài)范圍:107

質量準確度40ppm

靈敏度:103cps/ppm

深度分辨率:nm

正負離子模式

4個離子的靈活消隱功能

簡單易用的水平樣品裝載

產(chǎn)品特點:

樣品分析快速無預處理:無需超高壓腔

適用于各種材料及鍍層分析

全質量覆蓋:可提供從H到U元素的完整質譜和分子信息,包括同位素監(jiān)測

獨有3D數(shù)據(jù) ,脈沖射頻模式(**)

高深度分辨率:測試薄層可至1nm到厚層:厚層可達100μm

無需校準的半定量分析:濺射和電離過程分離,使得基體效應*小化

原理圖:

應用實例:

富含O18氧化鉭的同位素分析

Si PV的雜質識別

Si中B的定量摻雜

InGaN中Mg的定量分析

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