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C11295 多點納米膜厚測量儀
特性
多達15點同時測量
無參照物工作
通過光強波動校正功能實現(xiàn)長時間穩(wěn)定測量
提醒及警報功能(通過或失敗)
反射(透射)和光譜測量
高速、高準確度
實時測量
不整平薄膜精確測量
分析光學(xué)常數(shù)（n，k）
可外部控制
參數(shù)
| 型號 | C11295-XX*1 |
| 可測膜厚范圍（玻璃） | 20 nm to 100 μm*2 |
| 測量可重復(fù)性（玻璃） | 0.02 nm*3 *4 |
| 測量準確度（玻璃） | ±0.4 %*4 *5 |
| 光源 | 氙燈 |
| 測量波長 | 320 nm to 1000 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
| 工作距離 | 10 mm*4 |
| 可測層數(shù) | *多10層 |
| 分析 | FFT 分析，擬合分析 |
| 測量時間 | 19 ms/點*7 |
| 光纖接口形狀 | SMA |
| 測量點數(shù) | 2~15 |
| 外部控制功能 | Ethernet |
| 接口 | USB 2.0（主單元與電腦接口） RS-232C（光源與電腦接口） |
| 電源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 約330W（2通道）~450W（15通道） |
*1：-XX，表示測點數(shù)
*2：以 SiO2折射率1.5來轉(zhuǎn)換
*3：測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差
*4：取決于所使用的光學(xué)系統(tǒng)或物鏡的放大率
*5：可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中
*6：鹵素?zé)粜蜑镃11295-XXH
*7：連續(xù)數(shù)據(jù)采集時間不包括分析時間
暫無數(shù)據(jù)！
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