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高分辨率納米壓印模板
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儀器簡(jiǎn)介:

采用**制造工藝,可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標(biāo)準(zhǔn)模板分為三類:Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2"、3"、4"。適用于Obducat,Suss,HP,EVG等多種型號(hào)的納米壓印設(shè)備。

技術(shù)參數(shù):

Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si, SiNx, SiC, quartz,glass).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For smaller area, minimum feature size of 50 nm.

提供各種材料的納米壓印模板(硅,氮化硅,碳化硅,石英玻璃)。模板**尺寸:4英寸,特征尺寸為100nm。對(duì)于更小的尺寸,*小的特征尺寸可以達(dá)到50nm。

Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers.

提供*低30nm特征尺寸的各種結(jié)構(gòu)的電子束刻蝕服務(wù)?;澹喝魏螌?dǎo)電或者非導(dǎo)電晶片。

Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si, III-V, II-VI and polymers.

各種納米結(jié)構(gòu)(硅,III-V族元素,II-VI族元素以及聚合物)的微納米加工。

主要特點(diǎn):

soft mold for thermal nanoimprint 熱壓印的軟模板

quartz mold for UV nanoimprint 紫外壓印的石英模板

silicon mold for thermal nanoimprint 熱壓印的硅模板

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產(chǎn)品質(zhì)量

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10分

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10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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