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ALD原子層沉積設備品牌
福宜真空產(chǎn)地
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公司開發(fā)的主要設備有：工模具硬質(zhì)涂層鍍膜設備、磁控濺射鍍膜設備、多弧離子鍍膜設備、磁控濺射復合多弧離子鍍鍍膜設備、連續(xù)線式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線、光學鍍膜設備、CVD和PECVD化學氣相沉積設備、ICP刻蝕設備和ALD原子層沉積等系列真空鍍膜和表面處理設備。
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