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●磁控濺射鍍膜設備主要用于在基片上鍍制金屬、半導體、電介質、多元素化合物或混和物。利用濺射法可制備金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜。
●基片尺寸適應范圍廣，可鍍制多種材料，工藝可控性好、靈活性強、重復性高、基片溫升小、膜層附著力強，計算機全自動控制，******性高。
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