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高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統(tǒng)---PECVD+熱絲CVD400
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統(tǒng)---PECVD+熱絲CVD400

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型號(hào)

高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積及熱絲CVD系統(tǒng)---PECVD+熱絲CVD400

品牌

沈陽(yáng)科學(xué)儀器

產(chǎn)地

遼寧

樣本

暫無(wú)
中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司

高級(jí)會(huì)員

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第1年

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產(chǎn)品概述:
系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。
本系統(tǒng)具有PECVD功能和熱絲CVD功能。

設(shè)備用途:
PECVD即是化學(xué)氣相沉積法,是一種化工技術(shù),該技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的方法?;瘜W(xué)氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來(lái)的制備無(wú)機(jī)材料的新技術(shù)?;瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無(wú)機(jī)薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物,而且它們的物理功能可以通過(guò)氣相摻雜的淀積過(guò)程精確控制。化學(xué)氣相淀積已成為無(wú)機(jī)合成化學(xué)的一個(gè)新領(lǐng)域,PCEVD是等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積英文的各個(gè)詞字母的**字母。

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