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1、機(jī)臺采用進(jìn)口勞士領(lǐng)板材，長期可工作在酸腐蝕環(huán)境，堅固耐用，雙層防漏 。

2、采用 HF+HNO3/H3P04+HNO3等工藝對硅片表面腐蝕清洗的工藝設(shè)備，可清洗4“，5”，6“硅片。

3、可設(shè)計手動全自動運(yùn)行設(shè)計，全自動運(yùn)行方式采用兩只獨(dú)立機(jī)械臂運(yùn)行，可上下提動。

4、清洗能力：4~6寸圓片，25片2籃/批

5、各工藝槽溫度可控，獨(dú)立控制。

6、各工藝槽模組化設(shè)計，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中。腐蝕槽設(shè)計底部排風(fēng)，降低排風(fēng)量。

7、工藝槽可設(shè)計提動動作，清洗更快更徹底。

8、控制部分采用進(jìn)口品牌PLC 和HM ；

9、機(jī)臺前部配備有PTFE純水槍和PTFE氮?dú)鈽尭?只置于右側(cè)。

1、機(jī)臺采用進(jìn)口勞士領(lǐng)板材，長期可工作在酸腐蝕環(huán)境，堅固耐用，雙層防漏 。

2、采用 HF+HNO3/H3P04+HNO3等工藝對硅片表面腐蝕清洗的工藝設(shè)備，可清洗4“，5”，6“硅片。

3、可設(shè)計手動全自動運(yùn)行設(shè)計，全自動運(yùn)行方式采用兩只獨(dú)立機(jī)械臂運(yùn)行，可上下提動。

4、清洗能力：4~6寸圓片，25片2籃/批

5、各工藝槽溫度可控，獨(dú)立控制。

6、各工藝槽模組化設(shè)計，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中。腐蝕槽設(shè)計底部排風(fēng)，降低排風(fēng)量。

7、工藝槽可設(shè)計提動動作，清洗更快更徹底。

8、控制部分采用進(jìn)口品牌PLC 和HM ；

9、機(jī)臺前部配備有PTFE純水槍和PTFE氮?dú)鈽尭?只置于右側(cè)。

10、設(shè)備設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)按半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（SEMI-S2-93）執(zhí)行，ISO9001質(zhì)量管理體系進(jìn)行規(guī)范和保證。