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M5111-8WKUM型高溫負壓氧化爐設備品牌
電子科技產(chǎn)地
湖南樣本
暫無非金屬電熱元件：
其他金屬電熱元件：
其他燒結氣氛：
其他溫控精度：
≤±1mm最高溫度：
-額定溫度：
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高溫氧化爐是半導體器件加工中的典型熱處理設備，用于集成電路、分立器件、太陽能光伏行業(yè)中進行氧化、退火、合金及燒結等工藝。
高產(chǎn)能，單管產(chǎn)能可達1600片/批；
溫控系統(tǒng)性能出色，采用可預測型五段雙回路智能溫控系統(tǒng)以及新型爐體，控溫精度和回溫性能優(yōu)異；
全套倍福系統(tǒng)及總線控制方式，可靠性和信息化化性能優(yōu)異；
自動上下料系統(tǒng)，采用全自動上下料、在線式插取片對接系統(tǒng)，擴展了設備自動化程度，降低人工勞動強度，減少人工污染。
產(chǎn)能 | 硅片尺寸 | 156×156mm方片 |
單管裝片量 | 1600片/批（槽間距2.38mm） | |
工藝類型 | 高溫氧化、退火工藝 | |
溫度控制系統(tǒng) | 控溫方式 | 5段雙回路串級控制 |
控溫范圍 | 600℃～1100℃ | |
恒溫區(qū)長度及精度 | ≤±0.5℃/1600mm（801℃～1100℃） ≤±1℃/1600mm（400℃～800℃） | |
單點穩(wěn)定性 | ±0.5℃/24h(靜態(tài)，900℃) | |
爐體升降溫速率 | **升溫20?C/min；**降溫5?C/min | |
氣路系統(tǒng) | 流量控制方式 | 氮氣、氧氣流量由MFC控制；保護氮氣由浮子流量計控制 |
氣體控制精度 | ±0.5%FS | |
送舟機構 | 水平推舟速率 | 1～400mm/min 連續(xù)可調，定位精度≤±1mm |
垂直升降速率 | 8～12mm/min | |
石英舟進出方式 | 軟著陸、在線式（凈化臺側出舟） | |
SiC槳**承載 | 25Kg | |
控制系統(tǒng) | 工藝監(jiān)控方式 | 工業(yè)平板電腦全自動控制（觸摸屏操作） |
自動控溫功能 | 具有自動斜率升降溫及恒溫功能 | |
工藝歷史記錄功能 | 核心工藝參數(shù)（溫度、壓力、流量、功率、電流、淀積時間）每3秒記錄一次，其他過程每10秒記錄一次。 | |
報警保護功能 | 設備具有工藝狀態(tài)聲光提醒，以及計算機異常、超溫報警與欠溫、MFC偏差、反應室壓力偏差、極限超溫報警和保護功能； | |
其他參數(shù) | 設備峰值功率 | 280 KVA（5管） |
保溫功率 | 75 KVA（5管） | |
設備柜體尺寸 | 7440mm(長）×2020mm（寬）×3530（高） | |
設備利用率 | ≥98% |
暫無數(shù)據(jù)！
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