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日本itoh伊藤 氧化鋯球(ZrO 2-95%)
日本itoh伊藤 氧化鋯球(ZrO 2-95%)

參考價格

1-5萬元

型號

(ZrO 2-95%)

品牌

日本itoh伊藤

產(chǎn)地

日本

樣本

暫無
深圳秋山工業(yè)設(shè)備有限公司

金牌會員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 莫氏硬度:

    9
  • 粒度/直徑(μm):

    從微米級到毫米級
  • 密度:

    3.9~4.1g/cm3
  • 含量:

    95
  • 材質(zhì):

    氧化鋯
  • 形狀:

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物理性能

  • 高密度:密度達(dá)到6.0g/cm3,在研磨過程中能提供更大的沖擊能量,尤其適用于高粘度物料的研磨。

  • 高硬度:維氏硬度超過1200kg/mm2,莫氏硬度達(dá)到9級,具有優(yōu)異的耐磨性能,磨損率低。

  • 低磨耗:磨耗率極低,僅為0.01%以下,在高速研磨工況下,磨損率較鋼珠降低40%。

  • 抗沖擊性:壓碎強(qiáng)度超過150kgf,能夠承受砂磨機(jī)高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的機(jī)械沖擊

  • 熱穩(wěn)定性:耐溫可達(dá)600℃,熱膨脹系數(shù)接近金屬,在高溫環(huán)境下仍能保持強(qiáng)度與硬度不變

  • 表面特性:表面光滑,具有珍珠光澤,降低了物料的粘附,即使磨損后仍能保持均勻的磨耗形態(tài)

化學(xué)性能

  • 高純度:ZrO?含量≥95%,Y?O?含量為4.5-5.5%,化學(xué)穩(wěn)定性高,不與大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)

  • 無污染:在研磨過程中不會對物料造成污染,特別適用于對純度要求高的物料研磨。

工藝性能

  • 生產(chǎn)工藝:采用干粉等靜壓成型技術(shù),通過150MPa以上壓力使粉體均勻致密化,再經(jīng)1550℃以上高溫?zé)Y(jié)形成微晶結(jié)構(gòu),確保在高速運(yùn)轉(zhuǎn)工況下具有良好的抗碎裂性能。

  • 表面處理:采用精密拋光工藝,使球體圓度誤差小于0.05mm,確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性。

應(yīng)用領(lǐng)域

  • 精密加工:在航空航天領(lǐng)域,用于鈦合金、陶瓷基復(fù)合材料的超細(xì)研磨。

  • 化工生產(chǎn):用于鈦白粉分散、高分子材料濕法研磨。

  • 電子制造:用于光連接器部件的拋光與分散。

  • 特種材料:用于珠寶拋光、生物技術(shù)中DNA/RNA提取的細(xì)胞破碎。

  • 研磨介質(zhì):廣泛應(yīng)用于砂磨機(jī)、球磨機(jī)等設(shè)備中,在油漆涂料行業(yè),其研磨效率較傳統(tǒng)介質(zhì)提升30%,并能減少因介質(zhì)碎裂導(dǎo)致的物料污染

綜上所述,日本伊藤(Itoh)生產(chǎn)的95%氧化鋯球(ZrO?)以其高密度、高硬度、低磨耗、抗沖擊性、熱穩(wěn)定性以及優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和無污染特性,廣泛應(yīng)用于多個工業(yè)領(lǐng)域,是一種理想的研磨介質(zhì)和高性能材料。


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低磨耗:磨耗率極低,僅為0.01%以下,在高速研磨工況下,磨損率較鋼珠降低40%。
抗沖擊性:壓碎強(qiáng)度超過150kgf,能夠承受砂磨機(jī)高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的機(jī)械沖擊。
熱穩(wěn)定性:耐溫可達(dá)600℃,熱膨脹系數(shù)接近金屬,在高溫環(huán)境下仍能保持強(qiáng)度與硬度不變。
表面特性:表面光滑,具有珍珠光澤,降低了物料的粘附,即使磨損后仍能保持均勻的磨耗形態(tài)。
化學(xué)性能
高純度:ZrO?含量≥95%,Y?O?含量為4.5-5.5%,化學(xué)穩(wěn)定性高,不與大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)。
無污染:在研磨過程中不會對物料造成污染,特別適用于對純度要求高的物料研磨。
工藝性能
生產(chǎn)工藝:采用干粉等靜壓成型技術(shù),通過150MPa以上壓力使粉體均勻致密化,再經(jīng)1550℃以上高溫?zé)Y(jié)形成微晶結(jié)構(gòu),確保在高速運(yùn)轉(zhuǎn)工況下具有良好的抗碎裂性能。
表面處理:采用精密拋光工藝,使球體圓度誤差小于0.05mm,確保設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性。
應(yīng)用領(lǐng)域
精密加工:在航空航天領(lǐng)域,用于鈦合金、陶瓷基復(fù)合材料的超細(xì)研磨。
化工生產(chǎn):用于鈦白粉分散、高分子材料濕法研磨。
電子制造:用于光連接器部件的拋光與分散。
特種材料:用于珠寶拋光、生物技術(shù)中DNA/RNA提取的細(xì)胞破碎。
研磨介質(zhì):廣泛應(yīng)用于砂磨機(jī)、球磨機(jī)等設(shè)備中,在油漆涂料行業(yè),其研磨效率較傳統(tǒng)介質(zhì)提升30%,并能減少因介質(zhì)碎裂導(dǎo)致的物料污染。
綜上所述,日本伊藤(Itoh)生產(chǎn)的95%氧化鋯球(ZrO?)以其高密度、高硬度、低磨耗、抗沖擊性、熱穩(wěn)定性以及優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和無污染特性,廣泛應(yīng)用于多個工業(yè)領(lǐng)域,是一種理想的研磨介質(zhì)和高性能材料。

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