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典型應(yīng)用
氣體行業(yè)、半導(dǎo)體工藝設(shè)備，如 CVD,MOCVD, 硅外延，光纖，太陽(yáng) 能光伏等
工藝介紹
主要針對(duì)N2、H2、Ar、He 等稀有氣體中雜質(zhì)02、 H20、CO2, 常溫下采用吸附劑的化學(xué)催化、物理吸附技術(shù)，對(duì)以上雜質(zhì)深度脫除，節(jié)省空間，安裝簡(jiǎn)捷，使用方便。
純化指標(biāo)表
氣體類(lèi)別 | 可純化氣體 | 去除雜質(zhì) | 純化指標(biāo) |
D-惰性氣體 | N2、Ar、He、Ne、Kr | H?O、0?、CO、CO?、H? | <1ppb |
Y-氧氣 | 0? | H?O、CO? | |
Q-氫氣 | H? | H?O、0?、CO、CO? |
*表中只列出典型的和常見(jiàn)的氣體，更多可純化氣體請(qǐng)與柯林斯聯(lián)系
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