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多腔磁控濺射光學(xué)鍍膜機品牌
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射頻離子源清洗及后氧化輔助濺射成膜，適用于車載蓋板玻璃和3C產(chǎn)品前蓋玻璃沉積AR膜，其中AR膜可為普通SiO2+Nb2O5膜系，也可為硬質(zhì)SiO2+Si3N4膜系。可選在線AF/AS系統(tǒng)，沉積AR+AF/AS膜，AR+DLC+AF/AS膜，兼容2D/3D基材。同時也適用于3C產(chǎn)品后蓋顏色膜（含漸變色膜）、NCVM膜的加工。
| 規(guī)格 | |
| 型號 | HCSO-2550V |
| 尺寸 | Ф2700mm*H2350mm |
| 結(jié)構(gòu) | 三腔室結(jié)構(gòu)（進(jìn)料室+工藝室+出料室） |
| 性能 | |
| 轉(zhuǎn)速 | 10~100RPM（可變） |
| 進(jìn)出料室抽速 | 大氣壓至10Pa≤5min |
| 工藝室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 極限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 濺射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夾具系統(tǒng) | 中心旋轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)夾具桶 / 掛板機械結(jié)構(gòu)傳動 |
| 掛板 | Φ2550x H1200 ~ H1800mm 掛板尺寸可客制化調(diào)整 |
| 排氣系統(tǒng) | 低真空泵組 + 高真空泵組 + Polycold |
| 真空控制系統(tǒng) | 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計 |
| 鍍膜系統(tǒng) | DC或MF磁控濺射源+ 等離子體源 + 在線AF/AS蒸發(fā)源 |
| 充氣系統(tǒng) | MFC或APC自動壓強控制儀 |
| 控制系統(tǒng) | PC+PLC |
| 應(yīng)用 | |
| 光學(xué)薄膜應(yīng)用 | UV截止濾光片、AR、硬質(zhì)AR膜、硬質(zhì)膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 適用波長 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（數(shù)據(jù)僅供參考） | |
暫無數(shù)據(jù)！
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