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氧化硅拋光液
氧化硅拋光液

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

氧化硅拋光液

品牌

達(dá)西濃

產(chǎn)地

江蘇

樣本

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達(dá)西濃納米科技(常州)有限公司

高級(jí)會(huì)員

|

第7年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
  • 品級(jí):

    工業(yè)級(jí)
  • 外觀:

    液體
  • 有效物質(zhì)含量:

    30%
  • 執(zhí)行質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

    -
  • 密度(g/c㎡):

    -
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一、氧化拋光液產(chǎn)品介紹

達(dá)西濃自主生產(chǎn)的氧化硅拋光液主要由高純度膠態(tài)氧化硅微粒或高純度硅粉制成,具有高純度和低金屬離子的特性,可以有效避免加工元件產(chǎn)生刮傷。其分散性好,去除率高,表面效果好,對(duì)工件無(wú)損傷,且易于清洗?。


二、氧化拋光液產(chǎn)品參數(shù)

1.png


三、氧化拋光液產(chǎn)品特點(diǎn)

氧化硅拋光液主要由納米級(jí)的硅氧化物顆粒構(gòu)成,這些顆粒在水中形成穩(wěn)定的溶膠體系。由于顆粒很細(xì)小,能夠更均勻地分布在被拋光材料的表面,從而實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的拋光效果。此外,該拋光液還具有良好的穩(wěn)定性和環(huán)保性,既保證了拋光質(zhì)量,又符合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)對(duì)環(huán)保的高要求。


四、氧化拋光液應(yīng)用領(lǐng)域:

1、電子半導(dǎo)體行業(yè):在半導(dǎo)體晶圓的制造過(guò)程中,氧化硅拋光液被廣泛用于硅片的化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝,以提高硅片表面的平整度和光潔度。

2、光學(xué)領(lǐng)域:用于光學(xué)鏡片、棱鏡等光學(xué)元件的拋光。像在相機(jī)鏡頭的生產(chǎn)中,這些拋光液可以使鏡頭表面達(dá)到極高的平整度和光潔度,減少光的反射和散射,提高成像質(zhì)量。

3、精密機(jī)械:在精密機(jī)械零件的制造中,使用氧化硅拋光液可以進(jìn)一步提高零件表面的光潔度和精度,從而提升機(jī)械的整體性能和壽命。

4、陶瓷加工:對(duì)于陶瓷材料,如陶瓷基板、陶瓷藝術(shù)品等的拋光。利用其硬度和化學(xué)穩(wěn)定性,將陶瓷表面打磨得光滑平整。

5、金屬表面處理:對(duì)金屬材料,像不銹鋼、鋁合金等,進(jìn)行鏡面拋光或者精飾拋光,提高金屬制品的外觀和耐腐蝕性。

2.png


五、氧化硅拋光液使用注意事項(xiàng)

  • 使用前準(zhǔn)備?:使用前,拋光織物需用清水濕透,以避免摩擦熱影響拋光效果?。

  • ?使用方法?:?jiǎn)?dòng)拋光盤(pán)后,將拋光液輕搖均勻后倒出,噴撒時(shí)以拋光盤(pán)中心為圓心,沿半徑方向噴出3-5秒即可。新織物噴撒時(shí)間相應(yīng)延長(zhǎng),以確保磨削能力?。

  • ?儲(chǔ)存條件?:氧化硅拋光液應(yīng)儲(chǔ)存在0~35℃的環(huán)境中,低于0℃會(huì)形成不可再分散的凝膠,高于35℃會(huì)促使微生物生長(zhǎng)和加速凝膠化,縮短儲(chǔ)藏期?。

  • ?結(jié)晶問(wèn)題?:常規(guī)二氧化硅拋光液在使用過(guò)程中可能會(huì)結(jié)晶,建議在拋光后立即清洗拋光布,以防結(jié)晶。非結(jié)晶型二氧化硅拋光液則不用擔(dān)心結(jié)晶問(wèn)題,更適合長(zhǎng)時(shí)間拋光和振動(dòng)拋光的應(yīng)用?。

  • ?安全事項(xiàng)?:使用時(shí)應(yīng)保持良好的通風(fēng)狀況,避免與眼睛或皮膚接觸,如接觸應(yīng)用大量清水沖洗。廢棄的拋光液應(yīng)符合當(dāng)?shù)丨h(huán)保標(biāo)準(zhǔn)處理?。


創(chuàng)新點(diǎn)

具有良好的穩(wěn)定性和環(huán)保性,既保證了拋光質(zhì)量,又符合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)對(duì)環(huán)保的高要求

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10分

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10分

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10分

性?xún)r(jià)比

10分
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