一、儀器主要用途
二、儀器技術(shù)原理和參數(shù)
1、儀器工作原理
原子或離子可處于不連續(xù)的能量狀態(tài)，該狀態(tài)可以用光譜項(xiàng)來描述；當(dāng)處于基態(tài)的原子或離子吸收了一定的外界能量時(shí)，其核外電子就從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài)，而處于激發(fā)態(tài)的原子或離子很不穩(wěn)定，經(jīng)由約秒便躍遷返回基態(tài)，并將激發(fā)所吸收的能量以光的形式放出，將這些光按一定的波長(zhǎng)順序排列即為原子光譜；由于特定元素可產(chǎn)生一系列不同波長(zhǎng)的光，通過識(shí)別待測(cè)元素的特征光譜存在與否即可進(jìn)行定性分析，根據(jù)該波長(zhǎng)光的強(qiáng)度進(jìn)行定量分析。
激發(fā)臺(tái)中的電極與預(yù)先制備好的金屬樣本之間在激發(fā)過程中產(chǎn)生電火花。火花發(fā)出的光通過入射狹縫進(jìn)入光室，通過光柵分光后，不同波長(zhǎng)的光以不同的角度分開，照射到CMOS傳感器上。傳感器將光信號(hào)轉(zhuǎn)化成為電信號(hào)，并通過測(cè)量系統(tǒng)傳輸給計(jì)算機(jī)，經(jīng)處理后，得出分析結(jié)果。
2、主要技術(shù)參數(shù)
項(xiàng)目 指標(biāo)
檢測(cè)基體 鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基、錳基、鉻基等13個(gè)基體
光學(xué)系統(tǒng) 帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍 165-589nm（可安裝上下限檢測(cè)器范圍）
探 測(cè) 器 高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類型 DDD數(shù)字激發(fā)光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率 100-1000Hz
放電電流 **400A
檢測(cè)時(shí)間 依據(jù)樣品類型而定，一般在25s左右
電極類型 鎢材噴射電極
分析間隙 樣品臺(tái)分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng) 真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)
氬氣純度 99.999%
氬氣壓力 0.5MPa
工作電源 AC220V 50/60Hz
儀器尺寸 750*560*350mm
儀器重量 約70kg
五、儀器技術(shù)特點(diǎn)
W4型全譜直讀光譜儀擁有多項(xiàng)**技術(shù)，可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測(cè)器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。，針對(duì)不同材料、不同要求，具有性價(jià)比高的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開發(fā)的應(yīng)用。
1、性能優(yōu)越的光學(xué)系統(tǒng)
帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對(duì)全元素檢測(cè)的需求。
直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，保證紫外區(qū)域的性能。
高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩(wěn)定性，更強(qiáng)的靈敏度，滿足N的分析要求。
2、大能量的數(shù)字激發(fā)光源
全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，帶來優(yōu)越分析性能。
緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù)，使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的可靠性。
高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。
3、人性化的樣品激發(fā)臺(tái)設(shè)計(jì)
激發(fā)臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)
開放式樣品臺(tái)，滿足大樣品測(cè)試要求。
變換電極可對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
4、簡(jiǎn)潔的氬氣流設(shè)計(jì)
智能氬氣流設(shè)計(jì)及粉塵收集清理裝置
獨(dú)有的氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測(cè)器能夠觀測(cè)高溫區(qū)域光信號(hào)，提高精度和穩(wěn)定性。
激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
5、全智能的真空測(cè)量和控制
真空系統(tǒng)完全程控，在保證真空度的同時(shí)減少真空泵的運(yùn)行時(shí)間，
雙級(jí)設(shè)置，在儀器不運(yùn)行的情況下，開啟待機(jī)真空運(yùn)行狀態(tài)。
多級(jí)真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學(xué)元器件在可靠的環(huán)境中工作。
6、方便快捷的透鏡清理裝置
一體化的真空球閥，在清理透鏡時(shí)有良好的隔離效果。
單板式透鏡設(shè)計(jì)，拆裝方便。
交叉機(jī)械裝置，在未解除隔離的情況有效保護(hù)光學(xué)系統(tǒng)。
7、云計(jì)算及讀出系統(tǒng)
計(jì)算機(jī)與手機(jī)（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。
高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)及FPGA、DSP和ARM技術(shù)，進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。
以太網(wǎng)和TCP/IP協(xié)議，數(shù)據(jù)傳輸高速、可靠。
數(shù)據(jù)可遠(yuǎn)程傳輸，多方面實(shí)現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)化。實(shí)時(shí)方便對(duì)儀器運(yùn)行狀態(tài)的監(jiān)測(cè)和控制。
數(shù)據(jù)可進(jìn)行云打印。
8、專用的光譜分析軟件
光譜儀制作標(biāo)準(zhǔn)的專用光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標(biāo)準(zhǔn)化。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析解決方案。
可根據(jù)用戶的材料要求，可現(xiàn)場(chǎng)延長(zhǎng)標(biāo)準(zhǔn)曲線的測(cè)量上、下限。
9、儀器及軟件運(yùn)算功能強(qiáng)大
自動(dòng)光路校準(zhǔn)
低氬氣消耗
通用可調(diào)樣品適配器
基體擴(kuò)展功能
標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù)修改
控樣修正功能
更安全、更開放的便捷設(shè)計(jì)
結(jié)果實(shí)時(shí)顯示，可為用戶定制打印報(bào)告功能
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