粉碎程度:
超細粉碎單位能耗:
每小時耗電量在6-10度左右產量:
10-100升/小時裝機功率(kw):
7.5-11成品細度:
納米級入料粒度(mm):
最大0.5工作原理:
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DYNO?-MILL NPM(納米性能研磨機)用于微米和納米范圍內 低粘度至粘性產品的連續(xù)分散和濕法研磨。
獨特的研磨介質分離系統(tǒng)可使用 0.05 至 0.2 毫米的超小型研磨介質,而獲得**的 DYNO?加速器即使在很高產量下也能確保穩(wěn)定的工藝運行。
分散珠磨機有一個自帶驅動裝置的動態(tài)旋轉研磨介質分離系統(tǒng)。這樣就可以分兩步完成工藝的調整。分離系統(tǒng)的線速度可確保研磨介質與待磨物料的安全分離。主軸的線速度可獨立于分離系統(tǒng)根據(jù)研磨任務的需要進行調節(jié)。
憑借獨特的**研磨原理,DYNO?-加速器,以*窄的粒度分布達到**的產品質量,細度范圍小于100納米。DYNO?-加速器可確保研磨介質的強力液壓運動,并保證高效均勻的能量輸入以及溫和的加工,適用于從低粘度到高粘度的產品。
優(yōu)勢
適用于通道模式和循環(huán)模式操作,效率穩(wěn)定,可實現(xiàn)非常窄的粒度分布
采用優(yōu)質陶瓷,使用壽命長,無金屬污染
高效的能源輸入,能耗低
適用于小批量生產,冷卻性能理想,可加工對溫度敏感的產品
操作簡單,可記錄運行數(shù)據(jù)并保證重現(xiàn)性
只需少量清潔劑即可輕松清洗
操作簡便,運行和維護成本低
研磨腔的低間隙設計
優(yōu)勢
適用于通道模式和循環(huán)模式操作,效率穩(wěn)定,可實現(xiàn)最窄粒度分布
采用優(yōu)質陶瓷,使用壽命長,無金屬污染
高效的能源輸入,能耗低
適用于小批量生產,冷卻性能理想,可加工對溫度敏感的產品
操作簡單,可記錄運行數(shù)據(jù)并保證重現(xiàn)性
只需少量清潔劑即可輕松清洗
操作簡便,運行和維護成本低
研磨腔的低間隙設計
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正如我們的營銷總監(jiān)Dominik Eugster 所說: “加工商必須在無菌環(huán)境中使用無菌機器進行生產。生產結束后,就地清洗(CIP)技術必須能夠達到 100% 的純度,以防產品之間的交叉污染,并防止