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硅基底CVD石墨烯膜
硅基底CVD石墨烯膜

參考價(jià)格

1萬(wàn)元以下

型號(hào)

Si-G

品牌

產(chǎn)地

江蘇常州

樣本

暫無(wú)
常州碳時(shí)代科技有限公司

會(huì)員

|

第11年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

留言詢價(jià)
核心參數(shù)
  • 制作方法:

    CVD
  • 質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn):

    IS9001
  • 純度:

    1
  • 目數(shù):

    1
  • 品級(jí):

    1
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硅基底CVD石墨烯膜


聯(lián)系電話:13685******,劉先生


硅片厚度:700微米

硅片表面氧化硅厚度:300nm

石墨烯層數(shù):1層,2層,多層(可選)

石墨烯方阻:300-500(單層石墨烯)

石墨烯單層覆蓋率:>95%



樣品照片:


光學(xué)顯微鏡照片:

Raman光譜

參數(shù)價(jià)格:

量大可打折


存儲(chǔ)條件:

建議產(chǎn)品在常溫下保存在干燥,低氧(無(wú)氧)的容器中,建議一個(gè)月內(nèi)使用完.


創(chuàng)新點(diǎn)

CVD工藝制備的石墨烯薄膜,單層率高,尺寸大

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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