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天津中環(huán)電爐股份有限公司作為贊助單位出席2018低維碳納米材料制備及應用技術交流會!


來源:中國粉體網

[導讀]  天津中環(huán)電爐股份有限公司作為贊助單位出席2018低維碳納米材料制備及應用技術交流會!

從2018低維碳納米材料制備及應用技術交流會組委會獲悉,天津中環(huán)電爐股份有限公司作為贊助單位出席2018低維碳納米材料制備及應用技術交流會!本屆交流會由中國粉體網聯(lián)合江蘇省納米技術產業(yè)創(chuàng)新中心、中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所主辦,將于2018年4月24-25日在蘇州金陵觀園國際酒店舉辦。




天津中環(huán)電爐股份有限公司始建于1993年,集研發(fā)、制造、生產、銷售能力于一體。為眾多國家科研院所、大學提供實驗室電爐系統(tǒng)及服務并深受用戶肯定。截至到目前,公司有21大系列70個小類270余種產品。擁有一流的專業(yè)技術研發(fā)團隊、自主知識產權和二十余年的技術積累。具備為客戶量身打造有特殊需求的實驗室電爐系統(tǒng)的能力,是國內領先的實驗室電加熱設備及技術解決方案供應商。二十多年以來,公司的品牌在客戶的口碑中得以不斷的成長,同時在政府的扶植下取得了可喜榮譽。創(chuàng)新是企業(yè)的生命。中環(huán)電爐追求永續(xù)經營,尤其注重研發(fā)創(chuàng)新。中環(huán)電爐從創(chuàng)建之初就設立了產品研發(fā)中心,隨著公司的規(guī)模擴大,研發(fā)部門與生產線緊密結合,陸續(xù)推陳出新。


部分產品介紹


1、PECVD系統(tǒng)



PECVD系統(tǒng)——等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng),是借助于輝光放電子等離子體使含有薄膜組成的氣態(tài)物質反生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。


PECVD 的方式在反應腔室內引入了等離子,對生長的過程中起到了促進碳原子淀積的過程,使生長的時間大大縮短,一般的化學氣相淀積方法所需的反應時間在 1-2 個小時,而使用 PECVD 的方法生長石墨烯一般在幾分鐘內即可生長完全。并且因為引入了等離子的原因,使得碳源不需要很高溫度就可以使得甲烷當中的碳氫鍵斷裂,形成游離的碳原子來促進石墨烯的生長,相對于普通化學氣相淀積所需要的 1000℃以上的溫度,PECVD 僅僅需要幾百攝氏度的生長溫度,這從另一方面也降低制備過程中所需要能源的消耗。


PECVD系統(tǒng)優(yōu)點:

  • 基本溫度低,沉積速率快

  • 成膜質量好,針孔少,不易龜裂

  • 制備過程無需催化劑;

  • 制備特殊結構和形貌的薄膜結構

  • 等離子體氣相沉積法可以合成普通熱CVD無法獲得的碳氫結構,同時在等離子體電場誘導下形成特殊形貌。 


2、可視化燒結數(shù)據(jù)分析儀TA-16A01

可視化燒結數(shù)據(jù)分析儀TA-16A01,通過程序控溫利用高精度的工業(yè)級遠心攝像頭,對一定尺寸的試樣拍照后進行形貌變化規(guī)律的觀察分析,可以定量測定陶瓷、玻璃、耐火材料、保護渣、爐渣、模壓粉末、釬焊合金等在加熱過程中的收縮率,膨脹率,可以使試驗者在電腦上清晰地監(jiān)測高溫情況下,材料試樣的燒結、熔化、流動等情況并確定各種情況發(fā)生時的相應溫度。也可為表面張力、浸潤角的計算提供參考數(shù)據(jù)。


獨特功能:

  • 在非接觸樣品條件下測量和記錄材料的燒結收縮率,分析樣品的尺寸變化,即樣品的高度、寬度和面積變化

  • 實時測量規(guī)則或不規(guī)則形狀樣品在燒結過程中的變形,能夠無損測試小尺寸、精細、脆弱或是泡沫樣品

  • 判斷各特征溫度:燒結點、軟化點、球化、半球化、熔點

  • 輔助分析熔體與基體的潤濕行為

  • 實驗數(shù)據(jù)導出功能,分析曲線可以圖片格式導出,原始數(shù)據(jù)Excel格式導出,方便后期分析處理,例如多組數(shù)據(jù)分析


廣泛應用:

  • 給定一個坯體配方,找出最佳的燒結工藝

  • 給定一個燒結工藝,找出最合理的坯體配方

  • 研究材料的燒結過程動力學

  • 復雜形狀樣件的燒結工藝控制

  • 熔體與基體的潤濕行為

  • 廣泛適用于陶瓷、瓷釉、金屬材料、玻璃、耐火材料、礦物、釬焊合金和半導體等多種材料的高溫物性的分析測試


3、高溫光熱催化反應系統(tǒng)TJZ-OPTH-Ⅰ


TJZ-OPTH-Ⅰ高溫光熱催化反應系統(tǒng)(光熱協(xié)同),在高溫加熱過程中,上方氙燈光源產生的光可通過導光柱由外向內導入石英反應管并照射到反應樣品上,實現(xiàn)了光熱催化協(xié)同作用。實現(xiàn)催化新材料的合成與光熱催化活性的表征。


材料合成,高溫加熱(最高1000℃)的同時加入光源,提高催化劑材料的產率、改變材料的形貌特征、提高材料的各種性能。


材料表征,評價光熱協(xié)同情況下催化劑材料的活性。


TJZ-OPTH-Ⅰ高溫光熱催化反應系統(tǒng)(光熱協(xié)同),主要應用于半導體材料的合成燒結、催化劑材料的制備、材料的活性評價、光解水制氫、光解水制氧、二氧化碳還原、氣相光催化、甲醛氣體的光催化降解、VOCs、NOx、SOx、固氮等領域。


TJZ-OPTH-Ⅰ高溫光熱催化反應系統(tǒng)的特點:


  • 高溫光熱催化反應系統(tǒng)實現(xiàn)高溫過程中光催化反應體系,常溫~1000℃(連續(xù)可調、程序升溫)

  • 可以讓紫外光、可見光、紅外光等光源照射到催化劑材料的表面,實現(xiàn)光熱協(xié)同;

  • 光熱催化反應器采用高透光石英玻璃管,內含石英專用樣品臺

  • 可以實現(xiàn)氣氛保護、抽取真空、PECVD、多種氣體流量控制等功能

  • 系統(tǒng)采用滑動可平移的滑動結構,可以隨時調整樣品位置,實現(xiàn)快速加熱或快速冷卻

  • 采取模塊化設計,光源、高溫反應爐、高溫石英反應器、高真空、PECVD等,可根據(jù)情況任意更換

  • 可根據(jù)用戶需求,特殊定制,生產周期短、效率高


敬請關注2018低維碳納米材料制備及應用技術交流會


江蘇省納米技術產業(yè)創(chuàng)新中心、中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所聯(lián)合中國粉體網將于2018年4月24-25日在蘇州金陵觀園國際酒店舉辦 “2018低維碳納米材料制備及應用技術交流會”,會議旨在共同探討低維碳材料現(xiàn)階段的發(fā)展中所面臨的機遇和挑戰(zhàn),分享最新的研究成果,共同推動其產業(yè)化進程。


大會熱誠歡迎國內外相關領域的專家、學者、技術人員、企業(yè)界代表積極參會,同時歡迎公司、企事業(yè)單位到會展示技術成果,洽談產、學、研合作。


會務組: 

聯(lián)系人:孔德宇

Tel:13661293507(微信同號)

Email:1760047578@qq.com


聯(lián)系人:劉振華

Tel:15010096957(微信同號)

Email:Expo2026@163.com

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