中國粉體網(wǎng)訊
超納材料是尺寸小于10nm的納米材料的下一代革命性材料技術,具有反常于納米材料的超小尺寸效應,在半導體精密拋光、光罩缺陷修復、光學精密加工、量子計算、生物醫(yī)藥、航空航天航海、人工智能等方面有廠泛的應用前景,在化學、物理、材料、生物、量子等領域具有研究價值和應用價值。
蘇州極鉆納米科技有限責任公司創(chuàng)立于2024年4月,作為超納材料高新技術的先鋒,公司以半導體產(chǎn)品與車規(guī)新能源材料雙輪驅(qū)動,構建起以研發(fā)為主導、生產(chǎn)、銷售、進出口為一體的產(chǎn)學研結合新星企業(yè),專注于硬科技、卡脖子、國產(chǎn)替代的戰(zhàn)略布局。
在拋光液領域,公司已取得顯著成果。拋光液是化學機械拋光的重要組成部分,在拋光過程中,拋光液中的氧化劑、表面活性劑等與工件發(fā)生化學反應,使工件表面軟化;拋光液中的磨粒會對工件的軟化層進行機械磨削,使未反應的材料表面暴露出來,進而確保了材料表面的化學反應進行下去。公司現(xiàn)有產(chǎn)品包括超納金剛石精拋液、金剛石量子點基拋光材料和金剛石量子點基混合拋光材料,規(guī)劃產(chǎn)品有超納磁流變液、微納金剛石砂輪、光罩保護膜、金剛石保護膜、金剛石刀具、金剛石單光子器件、雙極板、核電池等相關產(chǎn)品與服務。
公司聚焦半導體制造關鍵耗材國產(chǎn)化,通過技術創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化,提供高精度、低成本的半導體化學物理拋光耗材,滿足高端市場需求。極鉆納米致力于研發(fā)拋光顆粒粒徑控制在2-5nm之間(分布誤差±0.5nm),達到行業(yè)最小尺寸極限,完成拋光精度表面粗糙度達0.1nm(原子級),面型精度優(yōu)于40nm,缺陷40nm小于10顆。公司通過宏微觀算法模型優(yōu)化CMP工藝參數(shù),提升拋光效率并降低生產(chǎn)成本,預計在三年內(nèi)申請發(fā)明專利5項,國際發(fā)明2項,融資3000萬元人民幣,用于原材料、生產(chǎn)設備、檢驗設備投資。將團隊擴充至50人,建設500平無塵生產(chǎn)車間。相關項目預計在2025年實現(xiàn)500萬元銷售收入,2026年實現(xiàn)1000萬的銷售收入,2027年實現(xiàn)2000萬的銷售收入。
研磨拋光技術在集成電路芯片的制作中具有重要作用,針對高端研磨拋光相關的技術、材料、設備、市場等方面的問題,中國粉體網(wǎng)將于2025年4月16日在河南鄭州舉辦2025第二屆高端研磨拋光材料技術大會。屆時,蘇州極鉆納米科技有限公司董事長劉添彪將作題為《超納金剛石光罩精拋液材料與算法研發(fā)產(chǎn)業(yè)化》的報告。
專家簡介:
劉添彪,男,31歲,擁有3年半導體材料和設備研發(fā)經(jīng)驗,專注于掩膜版新材料研發(fā)、工藝優(yōu)化及項目管理。熟悉i-line、KrF、ArF、EUV掩膜版技術,具備超精細研磨拋光、離子束拋光及飛秒激光加工等先進技術的實踐經(jīng)驗。在高純靶材國產(chǎn)化、光刻膠開發(fā)等“卡脖子”技術領域取得突破性成果,撰寫多篇專利,并與國內(nèi)龍頭企業(yè)合作推動技術落地。具備扎實的材料科學背景,熟練掌握多種材料表征和測試技術,如高壓原位拉曼光譜、同步輻射等。責任心強,創(chuàng)新能力突出,善于團隊協(xié)作與問題解決,致力于通過技術創(chuàng)新推動半導體材料國產(chǎn)化進程。
參考來源:
[1]中國粉體網(wǎng)
[2]賀祥等,混合磨粒 CMP 拋光液的制備及拋光效果研究
(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林)
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