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隨著電子、電氣及航空航天工業(yè)的快速發(fā)展,對耐高溫高性能絕緣材料的需求日益增加。聚酰亞胺(PI)作為一種典型的高性能工程高分子材料,具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性、介電性能和力學(xué)性能,被譽為目前綜合性能最好的有機高分子材料之一。由于分子結(jié)構(gòu)中含有大量剛性芳香環(huán)和酰亞胺基團,PI在高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定的物理和化學(xué)性能,廣泛應(yīng)用于柔性電路板、微電子封裝、絕緣薄膜、航空航天結(jié)構(gòu)件等關(guān)鍵領(lǐng)域。
在實際應(yīng)用中,PI材料通常由液態(tài)前驅(qū)體(如聚酰胺酸溶液)經(jīng)涂布成膜、熱亞胺化或交聯(lián)固化而制備。固化過程的充分與否將直接影響其最終的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)、力學(xué)強度及長期熱穩(wěn)定性。因此,利用差示掃描量熱儀(DSC)對PI材料的熱行為進行研究,不僅可以確定其Tg,還能夠反映出材料是否存在殘余溶劑、未反應(yīng)低聚物或焓弛豫等現(xiàn)象。
本次實驗對一次固化后的PI薄片樣品進行了兩次升溫DSC測試,通過比較兩次升溫過程中的熱流曲線差異,評估樣品的固化程度及熱歷史影響,并準(zhǔn)確獲得其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,從而為后續(xù)應(yīng)用及工藝優(yōu)化提供參考。
實驗儀器
差示掃描量熱儀(DSC)

上海和晟 HS-DSC-101A 差示掃描量熱儀
靈敏度:0.001 mW
溫度范圍:-35℃ ~ 600 ℃
溫度波動:±0.01 ℃
升溫速率:0.1 ~ 80 ℃/min
第一次升溫(室溫 → 400 ℃,20 ℃/min):曲線在 30 ~ 180 ℃ 范圍出現(xiàn)明顯的吸熱凹谷,最大吸熱位置約在 120 ~ 140 ℃ 區(qū)間,隨后基線逐漸回升至平穩(wěn)狀態(tài)。在該次升溫中未出現(xiàn)明顯的玻璃化轉(zhuǎn)變信號,推測主要為樣品中殘余溶劑、低分子或焓弛豫的釋放,掩蓋了Tg臺階信號。

圖1 第一次升溫DSC曲線
第二次升溫(室溫 → 400 ℃,20 ℃/min):低溫段基線平穩(wěn),在 239.72 ℃ 出現(xiàn)T1點(玻璃化轉(zhuǎn)變起始),在 251.79 ℃ 處達到Tg中點,258.87 ℃ 為玻璃化轉(zhuǎn)變終止溫度。該信號明顯且無其他強吸熱或放熱干擾,說明第一次升溫已消除殘余揮發(fā)與熱史效應(yīng),使材料本征的Tg得以顯現(xiàn)。
由此可見,一次固化后的PI薄片仍含有一定低分子或未完全反應(yīng)組分,建議在實際應(yīng)用前進行二次固化處理,以確保材料在高溫環(huán)境下的尺寸穩(wěn)定性和介電性能。

圖2 第二次升溫DSC曲線
為進一步清晰展示玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,圖3給出了帶有T1、Tg及T2標(biāo)注的第二次升溫曲線。

圖3 第二次升溫DSC曲線(標(biāo)注T1、Tg、T2)

1. 一次固化后的PI薄片在第一次升溫中出現(xiàn)了30–180 ℃范圍內(nèi)的顯著吸熱過程,說明樣品中仍存在殘余溶劑、低分子或未完全反應(yīng)的組分,掩蓋了玻璃化轉(zhuǎn)變信號,表明一次固化工藝并不完全充分。
2. 第二次升溫測試中,在239.72 ℃(T1)至258.87 ℃(T2)范圍內(nèi)出現(xiàn)了清晰的玻璃化轉(zhuǎn)變臺階,其中Tg中點為251.79 ℃,可作為該材料的真實玻璃化轉(zhuǎn)變溫度。
3. 高Tg(約252 ℃)符合芳香族聚酰亞胺的典型性能,說明材料具備較強的鏈段剛性和優(yōu)異的耐熱性,適合應(yīng)用于高溫電子器件、柔性電路及航空航天領(lǐng)域。
4. 為確保長期服役性能和尺寸穩(wěn)定性,建議在實際應(yīng)用前對PI薄片進行二次固化或高溫處理,以去除殘余低分子和溶劑,從而提升材料的介電穩(wěn)定性和機械可靠性。
5. DSC的二次升溫方法能夠有效評估PI的固化程度和玻璃化轉(zhuǎn)變特征,應(yīng)作為PI材料質(zhì)量控制與工藝優(yōu)化的重要測試手段。
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