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賽默飛(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射電鏡
賽默飛(原FEI)Helios 5 Laser PFIB TEM透射電鏡

參考價(jià)格

面議

型號

Helios 5 Laser PFIB TEM

品牌

賽默飛世爾科技

產(chǎn)地

捷克

樣本

暫無
北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司

金牌會員

|

第7年

|

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    <250 nm
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   Thermo Scientific? Helios? 5 Laser PFIB提供了****的能力,極端大體積3D分析,Ga-free樣品制備,和精密微加工。具有創(chuàng)新的,完全集成的飛秒激光器,它提供*快的材料去除率和**的切割面質(zhì)量,是毫米尺度范圍納米分辨率下*快的高質(zhì)量亞表面和三維表征設(shè)備。

產(chǎn)品參數(shù)

飛秒激光PFIB

**體積:2000×2000×1000μm3
**束流:~1mA(等效于離子束電流)
切割束流:74μA
束斑尺寸:15μm
激光集成:3束(SEM/PFIB/激光)完全集成在樣品室中,并具有相同的重合點(diǎn),
實(shí)現(xiàn)精確、可重復(fù)的切割位置和三維表征。
一次諧波:波長1030 nm(紅外),脈沖寬度<280 fs
二次諧波:波長515 nm(綠),脈沖寬度<300 fs

電子光學(xué):
☆ 三束重合點(diǎn)  WD=4 mm(與SEM/FIB相同)
可變物鏡(電動(dòng))
偏光:水平/垂直
重復(fù)率: 1 kHz~1 MHz
光束定位精度:<250 nm
保護(hù)擋板:自動(dòng)SEM/PFIB保護(hù)擋板

軟件:
☆ 激光控制軟件
激光三維連續(xù)切片工作流程
EBSD激光三維連續(xù)切片工作流程
激光編程控制腳本*
安全性:互鎖式激光防護(hù)罩(1 類激光安全)

特點(diǎn)和用途

☆ *快的毫米級橫截面材料去除,材料去除率比典型的Ga + FIB要快15,000倍
☆ 通過在更短的時(shí)間內(nèi)采集更大的體積來實(shí)現(xiàn)統(tǒng)計(jì)學(xué)相關(guān)的表面下和三維數(shù)據(jù)分析
☆ 準(zhǔn)確、可重復(fù)的切割位置,三束交于樣品上同一點(diǎn)
☆ 通過提取表面下TEM薄片或塊體進(jìn)行三維分析來實(shí)現(xiàn)深層表面下特征快速表征
☆ 實(shí)現(xiàn)對不導(dǎo)電或?qū)﹄x子束敏感等具有挑戰(zhàn)性的材料進(jìn)行高吞吐量處理
☆ 實(shí)現(xiàn)對空氣敏感樣品的快速和簡單表征,無需在不同儀器之間傳送樣品來進(jìn)行成像和獲取橫截面
☆ Helios 5 PFIB平臺的所有功能都非??煽?,包括**質(zhì)量的無鎵 TEM和APT樣品制備以及極高分辨率成像能力


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