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MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各種碳納米材料，有一個(gè)水平石英管式爐。一個(gè)催化劑襯底(通常是銅鋁箔)放置在爐里，甲烷氣體或乙炔氣體從外部低流量和低壓地注入，在催化劑的襯托上形成石墨烯薄膜。

快速冷卻對(duì)于形成高質(zhì)量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷卻可以抑制碳過(guò)量的沉積在催化劑金屬箔上 (如銅或鎳箔)；系統(tǒng)配備了快速冷卻系統(tǒng)。管式爐向一側(cè)滑動(dòng)30mm到反應(yīng)爐，加熱的爐可以遠(yuǎn)離樣品，從而快速冷卻樣品。通過(guò)非常簡(jiǎn)單的方式達(dá)到快速冷卻的效果。

聯(lián)合日本科學(xué)與技術(shù)研究所（JST）開發(fā)，并且在多個(gè)國(guó)家注冊(cè)了該項(xiàng)技術(shù)的**！

主要特點(diǎn)：

1）快速加熱和制冷功能；

2）管式爐滑動(dòng)裝置，可使得樣品快速加熱和冷卻；

3）特殊設(shè)計(jì)的測(cè)溫傳感器，可直接監(jiān)測(cè)樣品溫度；

4）支持生長(zhǎng)其他各種碳納米材料（碳納米管、碳納米線等）；

技術(shù)指標(biāo)：