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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

EVG 610是一款入門級(jí)光刻機(jī)，支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式，可選配背面對(duì)準(zhǔn)模塊。也可用于鍵合對(duì)準(zhǔn)及納米壓印光刻（NIL），是科研開發(fā)用戶的理想選擇。

主要特點(diǎn)及參數(shù)：

·**支持8英寸（200mm）晶圓

·頂部及底部對(duì)準(zhǔn)：

頂部對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.5μm

底部對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm

紅外對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm（取決于襯底材料）

鍵合對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm

納米壓印對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm

·支持汞燈或UV-LED光源

·自動(dòng)楔形補(bǔ)償程序

·可選配功能：

鍵合對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

納米壓印光刻（NIL）