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桂林礦機高比表面積氫氧化鈣設(shè)備
桂林礦機高比表面積氫氧化鈣設(shè)備

參考價格

100-150萬元

型號

高比表面積氫氧化鈣設(shè)備

品牌

產(chǎn)地

桂林

樣本

暫無
桂林礦山機械有限公司

白金會員

|

第19年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 粉碎程度:

    超細粉碎
  • 單位能耗:

    詳情見桂礦說明書
  • 產(chǎn)量:

    10-40t/h
  • 裝機功率(kw):

    322/377/437
  • 成品細度:

    80-325目
  • 入料粒度(mm):

    最大35mm
  • 工作原理:

    輥壓碾磨
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高比表氫氧化鈣是指具有較大比表面積(通常大于40 m2/g)的氫氧化鈣顆粒。比表面積是指單位質(zhì)量物質(zhì)的總表面積,是衡量材料吸附性能的重要指標。高比表氫氧化鈣由于其較大的比表面積,具有以下優(yōu)勢:

1、吸附能力強:高比表氫氧化鈣能夠有效吸附空氣和水中的污染物,如重金屬離子、酸性氣體和有機物。

2、反應(yīng)活性高:較大的比表面積提供了更多的反應(yīng)活性位點,使得高比表氫氧化鈣在化學(xué)反應(yīng)中表現(xiàn)出更高的活性。

3、分散性好:高比表氫氧化鈣顆粒細小,易于在液體中分散,適用于制備高分散性漿料。


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