參考價(jià)格
5-10萬元型號(hào)
Nanotrac Wave Ⅱ品牌
Microtrac-BEL產(chǎn)地
日本樣本
暫無誤差率:
不限分辨率:
400重現(xiàn)性:
300儀器原理:
動(dòng)態(tài)光散射分散方式:
100測量時(shí)間:
不限測量范圍:
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動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù):采用先進(jìn)的動(dòng)態(tài)光背散射技術(shù),結(jié)合全量程米氏理論處理,可準(zhǔn)確測量粒徑范圍為0.3nm-10μm的納米顆粒。
微電場分析技術(shù):融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統(tǒng)的比色皿,一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù)。
異相多譜勒頻移技術(shù):獲得的光信號(hào)強(qiáng)度較傳統(tǒng)方法高出幾個(gè)數(shù)量級(jí),提高分析結(jié)果的可靠性。
快速傅利葉變換算法:迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時(shí)間。
“Y”型光纖探針光路設(shè)計(jì):通過藍(lán)寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對(duì)應(yīng)產(chǎn)生微電場,測量同一體系的Zeta電位,避免樣品交叉污染與濃度變化。
超短散射光程設(shè)計(jì):減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準(zhǔn)確性。
激光放大檢測方法:信噪比是其他DLS方法的106倍,如光子相關(guān)光譜(PCS)和納米跟蹤(NT),不受樣品中污染物造成的信號(hào)失真影響。
可控參比方法(CRM):能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。
高精度測量:粒度分析范圍寬,重現(xiàn)性誤差≤1%,濃度范圍廣(100ppb-40%w/v),測量精度高,無需預(yù)選,依據(jù)實(shí)際測量結(jié)果,自動(dòng)生成單峰/多峰分布結(jié)果。
無需復(fù)雜設(shè)備:無需比色皿、毛細(xì)管電泳池或外加電池,僅需點(diǎn)擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果。
消除多種干擾:完全消除由于空間位阻(不同光學(xué)元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學(xué)信號(hào)的損失,提高靈敏度。
FLEX軟件:提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形、數(shù)據(jù)輸出/輸入、個(gè)性化輸出報(bào)告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出、Internet共享數(shù)據(jù)、Microsoft Access格式(OLE)等。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11要求。
日本Microtrac-Bel納米顆粒粒度儀Nanotrac Wave Ⅱ
引言在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中,均質(zhì)機(jī)扮演著至關(guān)重要的角色,尤其是在食品、制藥、化妝品和生物技術(shù)領(lǐng)域。日本SMT均質(zhì)機(jī)以其卓越的性能和可靠性,成為市場上的熱門選擇。本文將詳細(xì)介紹日本SMT均質(zhì)機(jī)的技術(shù)特點(diǎn)和應(yīng)用
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