誤差率:
N/A分辨率:
N/A重現(xiàn)性:
優(yōu)于1%儀器原理:
靜態(tài)光散射分散方式:
N/A測量時間:
N/A測量范圍:
0.01μm - 3500μm看了馬爾文帕納科激光粒度儀Mastersizer 3000+的用戶又看了
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性能標(biāo)桿 智慧升級
Mastersizer 3000+ 在廣受贊譽(yù)的 MS3000硬件平臺上,進(jìn)一步優(yōu)化性能,增加了多項智能輔助功能,讓設(shè)備更易用,結(jié)果的確信度更高。新功能包括:
Data Quality Guidance數(shù)據(jù)質(zhì)量指南:為用戶提供實時的數(shù)據(jù)質(zhì)量反饋和故障排除建議。
SOP Architect SOP架構(gòu)師:在自動數(shù)據(jù)分析算法的支持下,指導(dǎo)您建立和優(yōu)化方法開發(fā)。
Size Sure 顆粒判定:算法可區(qū)分樣品和污染物,提高結(jié)果的確定性。
Smart Manager睿聯(lián):利用物聯(lián)網(wǎng) (IoT) 技術(shù)確保儀器長期正常運(yùn)行和高效利用。
OmniTrust:確保滿足合規(guī)及數(shù)據(jù)完整性要求。
由于客戶的應(yīng)用和預(yù)算都有不同,Mastersizer3000+系列提供多種配置滿足不同需求。 Mastersizer3000+ Lab、Pro和Ultra三種型號憑借出色的硬件設(shè)計和簡單易用的軟件,提供不同級別的功能和兼容性:
出色的檢測性能
Mastersizer 3000+ 具有良好的檢測性能,可測量 10 nm 至 3.5 mm 范圍內(nèi)的顆粒。它能精確測量亞微米級樣品,并擁有出色的重復(fù)性和**的寬分布樣品分辨率。
智能易用的軟件
即使不是技術(shù)專家,您也可以借助 Mastersizer 3000+ 獲得高質(zhì)量的數(shù)據(jù)。我們?nèi)碌?Mastersizer Xplorer 軟件,集成了一系列智能、易用的功能模塊,可提供直觀,專業(yè)的反饋和建議,從而讓您的方法開發(fā)更順暢,結(jié)果更準(zhǔn)確。
體積小巧
Mastersizer 3000+ 設(shè)計緊湊,符合人體工學(xué),造型現(xiàn)代,外型緊湊,實用性強(qiáng)。尺寸僅為 69 cm x 30 cm,能夠為您節(jié)省寶貴的實驗室空間。
自動對光和樣品池定位
正確的對光對粒度測試的準(zhǔn)確性和重復(fù)性至關(guān)重要。Mastersizer 3000+ 在設(shè)計時就考慮到了這一點,它會在每次測量前自動對光。此外,在每次插入樣品池后,儀器都會自動鎖定,以確保其定位準(zhǔn)確。
易于清潔
樣品測量池采用了封閉式快拆設(shè)計,無需專業(yè)工具即可輕松拆卸測量窗。這使得清潔窗口變得極其簡單,既能保證測量不受污染,又便于定期維護(hù)以確保儀器性能達(dá)到良好的狀態(tài)。
暫無數(shù)據(jù)!
隨著動力電池和新能源汽車的需求爆發(fā),鋰電正極材料也正在快速迭代,其中三元材料逐漸成為動力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法,化學(xué)分析過程相對復(fù)雜、分析時間長、梯度稀釋誤
2021-08-06
活動回顧近日,第十八屆藥機(jī)展(PMEC 2025 )在上海新國際博覽中心落下帷幕,馬爾文帕納科攜麥克默瑞提克在此次展會所展示的顆粒、粉體等先進(jìn)表征技術(shù)備受業(yè)內(nèi)人士關(guān)注。稍顯遺憾的是很多行業(yè)
展期:2025年6月24日-26日展館:上海新國際博覽中心W5館地址:上海市浦東新區(qū)龍陽路2345號展位號:W5P10W5P10 馬爾文帕納科展位效果圖2025年6月24日至26日,馬爾文帕納科(Ma
XRD(X 射線衍射)高通量測試是一種能在短時間內(nèi)對大量樣品進(jìn)行快速分析的技術(shù),其發(fā)展與應(yīng)用主要源于傳統(tǒng) XRD 測試在面對復(fù)雜樣品體系和大規(guī)模分析需求時的局限性。馬爾文帕納科最新推出了Aeris高容
粒度儀數(shù)據(jù)反映顆粒的大小分布,而分形維數(shù)則是對這種分布背后 “形態(tài)復(fù)雜性” 的量化。通過計算分形維數(shù),能從傳統(tǒng)粒度分析中挖掘出更深層的結(jié)構(gòu)信息,為理解顆粒的形成機(jī)制、優(yōu)化制備工藝、預(yù)測性能提供重要依據(jù)
本文摘要SiC端面傾角度數(shù)會影響晶體生長動力學(xué)、界面特性和器件的電場分布,決定了SiC功率器件的性能,傾角控制精度已從“工藝參數(shù)”升級為“核心競爭力”,本文將介紹4°傾角及其方向的重要性,以及馬爾文帕
本文由馬爾文帕納科XRD應(yīng)用專家陳辰供稿本文摘要PLSR 偏最小二乘回歸(Partial Least Squares Regression)是一種常用于處理多重共線性數(shù)據(jù)的統(tǒng)計建模方法。用于XRD定量