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顆粒檢測(cè)

推薦研磨拋光材料粒度/粒形檢測(cè)方法及影響因素

中國粉體網(wǎng)訊 研磨拋光技術(shù)是當(dāng)下把控電子制造業(yè)發(fā)展的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),也是關(guān)系到產(chǎn)品質(zhì)量水準(zhǔn)的一大關(guān)鍵因素,研磨拋光本質(zhì)上是為了獲得超光滑、超精密、無損傷、無缺陷的晶圓表面,以方便后續(xù)光刻得以順利進(jìn)行。為了能夠達(dá)到高質(zhì)量的表面質(zhì)[更多]

資訊 拋光研磨拋光磨料化學(xué)機(jī)械拋光顆粒檢測(cè)
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