推薦晶圓拋光的“三重奏”：如何用精準(zhǔn)拋光液配方實(shí)現(xiàn)高平整表面？

中國粉體網(wǎng)訊 近日，國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示，西安奕斯偉材料科技股份有限公司取得一項(xiàng)名為“用于最終拋光工藝的處理方法及拋光晶圓”的專利，可以在對(duì)晶圓表面進(jìn)行前序工藝損傷去除和鏡面化修復(fù)的同時(shí)減少微分干涉對(duì)比缺陷的形成。來源：國[更多]