中國粉體網訊  石墨烯，屬于二維材料，是近來物理學和材料技術領域最重要的發(fā)現之一。石墨烯比任何其他已知材料更堅固、更光滑、更輕，并且在導熱和導電方面更好。但這還不是全部：石墨烯最獨特的功能在于其可編程性。通過在材料上進行刻蝕，研究人員可以將其制成新型電子產品的元件，用于計算和存儲。

在DTU Nanolab 中，研究人員所使用的電子束光刻系統(tǒng)可以將細節(jié)寫到 10 納米。計算機計算可以準確預測石墨烯中圖案的形狀和大小，以創(chuàng)造新型電子產品。它們可以利用電子的電荷和量子特性，例如自旋或谷自由度，從而以低得多的功耗進行高速計算。然而，這些計算要求的分辨率比最好的光刻系統(tǒng)所能提供的分辨率更高：原子分辨率。

日前，丹麥技術大學（DTU） 和 Graphene Flagship 研究人員將納米材料圖案化藝術提升到了一個新的水平，直逼原子尺度。

研究人員納米材料六邊形氮化硼放在想要圖案化的材料頂部，然后用特定的蝕刻配方鉆孔。若要制作一個直徑為20納米的圓孔，則二維材料上的孔可以縮小至10納米。借助這項技術，廠家可以生產平面電子元透鏡——一種超緊湊的光學透鏡，可以在非常高的頻率下進行電氣控制。這將成為未來通信技術和生物技術的重要組成部分。

目前，研究人員尚未弄清這一“超分辨率”刻蝕技術背后的機制。不過，這對科學家來說是一項令人興奮且非常有用的技術。同時，這也有助于推動二維納米電子學和納米光子學的極限。

該研究題為"Super-Resolution Nanolithography of Two-Dimensional Materials by Anisotropic Etching"，發(fā)表于ACS Applied Materials & Interfaces期刊上。

（中國粉體網編輯整理/星耀）

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