中國粉體網(wǎng)訊  5月20日，菲利華在投資者互動平臺表示，公司目前具備TFT-LCD用光掩膜基板G4.5代到G10.5代生產(chǎn)能力。子公司合肥光微光電科技有限公司從事TFT-LCD光掩膜基板精加工，填補光掩膜版精加工領域的國內空白，有效完善國內TFT-LCD光掩膜版行業(yè)的產(chǎn)業(yè)鏈。

光掩膜版是光學、半導體等行業(yè)的核心材料，其性能直接影響下游產(chǎn)品質量。作為光刻工藝的關鍵載體，光掩膜版廣泛應用于集成電路（IC）、平板顯示器（FPD）、印刷電路板（PCB）、微機電系統(tǒng)（MEMS）等領域。

在光刻流程中，光掩膜版是實現(xiàn)圖形轉移的核心載體，猶如傳統(tǒng)相機的“底片”——若缺少它，次微米級線條將無法復刻到晶圓等襯底上，芯片制造便成無源之水。而光掩膜基板（又稱空白掩膜板）作為光刻成圖前的原始材料，其制備工藝為：在潔凈的石英或玻璃襯底上，通過磁控濺射形成100-200nm的鉻膜（或鉬硅膜與鉻膜）坯料，再涂布400-1000nm的光刻膠。

光掩膜基板的材料與制造難點

作為光掩膜版的基礎載體，光掩膜基板由玻璃層、膜層和膠層組成，其中玻璃基板和膜層是決定產(chǎn)品性能的核心要素。

1、石英玻璃的“苛刻標準”

玻璃基板主要采用石英玻璃和鈉鈣玻璃，二者均具備高光學透過率、低熱膨脹率和優(yōu)良光譜特性，適用于高精度光掩膜基板制造。其中，石英玻璃憑借純度高、化學穩(wěn)定性強、透光性優(yōu)異等特點，成為IC用光掩膜等高端領域的首選材料；鈉鈣玻璃則更多應用于中低端場景。

光刻級石英材料對均勻性和透過率要求極高，僅光學均勻性就需控制在1.0×10-6（cm/cm）以內，這對石英錠熔制、加工等環(huán)節(jié)提出了近乎苛刻的標準。

以合成石英制成光掩膜石英玻璃基板工藝尤為復雜。以化學氣相沉積法（CVD）為例，需以SiCl₄為原料，在氫氧焰中高溫水解生成SiO₂微粒，經(jīng)沉積熔化形成高純石英錠，再通過切割、熱加工（成型為石英板）、冷加工（切割、開方、倒角、磨拋等），最終制成光掩膜石英玻璃基板。

光掩膜石英玻璃基板的制造

除了石英玻璃，膜層形成過程中的針孔缺陷也是主要的不良來源之一，超過40%的掩膜基板不良率與針孔直接相關。針孔會導致膜層漏光，在曝光顯影時造成線條鉆蝕、凹陷、鋸齒等缺陷，嚴重影響產(chǎn)品良率。

2、菲利華無氣泡低膨脹石英玻璃成為關鍵技術布局之一

近日，菲利華一項名為“一種無氣泡低膨脹石英玻璃的制備方法”的發(fā)明專利引發(fā)關注。低膨脹石英玻璃能夠在室溫區(qū)間達到近零的熱膨脹系數(shù)，表現(xiàn)出優(yōu)異的熱穩(wěn)定性，可廣泛應用于航空航天、高精度光學、光掩膜等技術領域，是EUV光刻機、激光陀螺儀諧振腔體、天文望遠鏡反射鏡等高端光學儀器設備部件的關鍵制備材料。

氣泡是低膨脹石英玻璃中常見的缺陷之一，是影響其物理性質的關鍵因素。氣泡的存在會降低低膨脹玻璃的強度和硬度，氣泡串聯(lián)形成的空隙還會引起玻璃的脆性增加。此外，由于氣泡與低膨脹石英玻璃對光線的折射率不同，大量氣泡的存在還會影響其在光學領域的使用。

該專利通過模壓、冷等靜壓二次成型工藝制備高密度石英生坯，結合三段式升溫真空燒結技術，解決了傳統(tǒng)工藝中石英玻璃易產(chǎn)生氣泡、機械與光學性能不足的問題。

TFT-LCD領域的技術紅利

當前，TFT-LCD市場競爭激烈，高端手機用戶對屏幕質量的要求持續(xù)提升。CounterpointResearch數(shù)據(jù)顯示，預計到2025年，旗艦手機中高端TFT-LCD屏幕的滲透率將達30%。菲利華的技術突破將為國內手機廠商提供更優(yōu)質的顯示解決方案，助力其在國際市場中提升競爭力。

參考來源：

菲利華官網(wǎng)；投資者互動平臺；湖北省投資項目在線審批監(jiān)管平臺；國家知識產(chǎn)權局

陳婭麗等.光掩膜石英玻璃基板的制造工藝概述

（中國粉體網(wǎng)編輯整理/九思）

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