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一、設(shè)備概述

立式爐管清洗設(shè)備專(zhuān)為半導(dǎo)體、光伏、LED等行業(yè)的高溫爐管（如CVD爐管、擴(kuò)散爐管、退火爐管）設(shè)計(jì)，用于清除爐管內(nèi)壁沉積的硅料、氧化物、金屬顆粒及有機(jī)物殘留。通過(guò)高效化學(xué)清洗與物理剝離結(jié)合，恢復(fù)爐管的熱傳導(dǎo)性能和工藝穩(wěn)定性，延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命，同時(shí)避免因污染導(dǎo)致的晶圓良率下降或工藝偏差。

二、核心功能與技術(shù)特點(diǎn)

立式結(jié)構(gòu)與多向清洗

垂直清洗設(shè)計(jì)：針對(duì)立式爐管深孔結(jié)構(gòu)，采用自上而下的噴淋與超聲波清洗模式，確保清洗液均勻覆蓋管壁，避免死角殘留。

360°無(wú)死角沖洗：內(nèi)置旋轉(zhuǎn)噴頭與多角度噴嘴，通過(guò)高壓渦流沖擊分解頑固沉積物，清洗效率較傳統(tǒng)方式提升50%以上。

復(fù)合清洗工藝

化學(xué)清洗段：配置酸液（如HF/HNO?混合液）、堿液（如KOH溶液）及超純水沖洗槽，可針對(duì)不同污染物（如硅結(jié)垢、金屬氧化層）自動(dòng)切換清洗方案。

超聲波輔助：高頻超聲波空化效應(yīng)剝離微小顆粒，尤其適用于直徑≤5mm的深孔爐管內(nèi)壁清洗。

熱解碳化模塊：可選配高溫（**800℃）惰性氣體環(huán)境，用于去除有機(jī)物焦化層或碳沉積。

智能控制與安全保障

PLC程序化操作：7英寸觸摸屏預(yù)設(shè)多種清洗工藝（如標(biāo)準(zhǔn)清洗、重金屬去除、碳化硅專(zhuān)用清洗），支持參數(shù)自定義與數(shù)據(jù)存儲(chǔ)。

實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)：監(jiān)測(cè)清洗液溫度、pH值、液位及流量，異常時(shí)自動(dòng)報(bào)警并停止運(yùn)行。

雙重防腐蝕設(shè)計(jì)：清洗槽體采用PFA涂層+PTFE內(nèi)襯，耐氫氟酸、強(qiáng)堿等腐蝕性介質(zhì)；電氣元件全密封，避免酸堿侵蝕。

高效干燥與潔凈度保障

真空干燥系統(tǒng)：清洗后通過(guò)低溫真空（≤10Pa）快速脫水，防止水漬殘留導(dǎo)致二次污染。

無(wú)塵環(huán)境：干燥腔體配備HEPA過(guò)濾器（≥0.3μm顆粒過(guò)濾效率99.99%），確保爐管出口潔凈度達(dá)到Class 5標(biāo)準(zhǔn)。

三、設(shè)備優(yōu)勢(shì)

高兼容性：適配直徑5-150mm、長(zhǎng)度≤2米的立式爐管，支持單管或多管并行清洗。

低損傷率：柔性清洗噴頭與緩沖夾具設(shè)計(jì)，避免機(jī)械應(yīng)力導(dǎo)致?tīng)t管變形或劃痕。

節(jié)能環(huán)保：水循環(huán)系統(tǒng)重復(fù)利用清洗液，酸堿廢液分類(lèi)回收率≥90%；熱能回收裝置減少能源消耗。

長(zhǎng)壽命設(shè)計(jì)：核心部件（如超聲波振子、耐腐蝕泵）壽命≥3000小時(shí)，維護(hù)成本低。

四、應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體制造：清洗擴(kuò)散爐、LPCVD爐管內(nèi)壁的磷硅玻璃（PSG）殘留及金屬污染。

光伏行業(yè)：清理多晶硅鑄錠爐、PECVD爐管中的硅粉沉積與氮化硅薄膜。

LED外延工藝：去除MOCVD反應(yīng)腔體內(nèi)的碳化物與金屬有機(jī)殘留。

科研實(shí)驗(yàn)：高校或研究所高溫爐設(shè)備的爐管維護(hù)清洗。