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四方光電（武漢）儀器有限公司 2025-10-15 點擊195次
近日，在儀器信息網(wǎng)主辦的權(quán)威年度評選中，四方儀器自主研發(fā)的固定污染源廢氣氨排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)（NH3-CEMS）GasTDL-3001憑借技術(shù)創(chuàng)新性與應(yīng)用前景，從243臺參評新品中脫穎而出，榮獲2025年度“3i獎-科學(xué)儀器行業(yè)優(yōu)秀新品"提名獎。
此次獲獎的固定污染源廢氣氨排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)（NH3-CEMS）是四方儀器在激光氨逃逸監(jiān)測技術(shù)基礎(chǔ)上的重磅升級。其研發(fā)背景緊密契合國家環(huán)保政策趨勢：2024年起，水泥、焦化等行業(yè)超低排放實施意見已明確要求氨因子自動監(jiān)測；2025年中央環(huán)保督察更將部分企業(yè)燃煤鍋爐“氨逃逸"問題列為重點。為助力企業(yè)實現(xiàn)精準監(jiān)測與高效合規(guī)，四方儀器基于TDLAS技術(shù)，推出集成度更高、適應(yīng)性更強的二代產(chǎn)品，可獨立運行，也可無縫對接現(xiàn)有CEMS系統(tǒng)。
四方儀器固定污染源廢氣氨排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)（NH3-CEMS）GasTDL-3001
相較于一代產(chǎn)品，二代系統(tǒng)實現(xiàn)了三大核心躍升：
1. 高度集成，靈活部署：通過結(jié)構(gòu)優(yōu)化與模塊化設(shè)計，系統(tǒng)體積與重量顯著降低，既可獨立使用，也可適配多種復(fù)雜工況與安裝場景。
2. 抗干擾更強，精度更高：采?TDLAS技術(shù)，有效避免背景氣體交叉干擾；抽取式測量方式，不受煙道內(nèi)粉塵、溫度、壓?波動的影響。
3. 測量準確性更高：系統(tǒng)支持全程標定與校準功能，從流程上保障數(shù)據(jù)的長期準確性與溯源性。
作為氣體分析領(lǐng)域企業(yè)，四方儀器始終以"技術(shù)創(chuàng)新驅(qū)動環(huán)保升級"為使命。此次獲獎不僅是對該產(chǎn)品技術(shù)實力的肯定，也印證了四方儀器“政策帶領(lǐng)研發(fā)，技術(shù)賦能客戶"的戰(zhàn)略路徑——從CEMS核心儀表到專業(yè)的氨逃逸監(jiān)測系統(tǒng)，四方儀器持續(xù)助力企業(yè)在“脫硝效率"與“氨排放控制"之間實現(xiàn)精準平衡與雙重合規(guī)。