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該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：

1，研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異

2，具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求

3，高效的沉積速率，鍍膜時(shí)間快

4， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的**工具

主要的特點(diǎn)和先進(jìn)的功能：

1， 臺(tái)式，小型，快速

2，全自動(dòng)化程序控制

3，單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜，多路氣體管路

4，共聚焦設(shè)計(jì)，靶槍尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，襯底可做到200mm，旋轉(zhuǎn)1-20RPM，以及Load-lock配置

5，配置干泵+分子泵，可達(dá)高真空，適用高品質(zhì)薄膜沉積。

6， 可做直流濺射，射頻濺射，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）

性能價(jià)格比高！！