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磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)
磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)

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產(chǎn)地

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技術(shù)參數(shù):我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍

安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF

真空腔體內(nèi)長度范圍:150-400mm

真空腔體內(nèi)端面直徑:60-96

靶材直徑: 1", 2" and 3"

靶材**厚度:4-6mm

冷卻:水冷

特點(diǎn):

100%超高真空(UHV)應(yīng)用

獨(dú)有的放射性沉積模式

在線Z軸驅(qū)動(dòng)及傾斜

水冷時(shí)不會(huì)存在水汽

平衡靶和非平衡靶設(shè)計(jì)

高強(qiáng)度磁體應(yīng)用于磁性材料

應(yīng)用領(lǐng)域:

PVD沉積

金屬涂層

納米結(jié)構(gòu)薄膜

多層鍍層

反應(yīng)濺射

射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射

硬質(zhì)涂層

創(chuàng)新點(diǎn)

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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