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美國(guó)Trion Technology

等離子刻蝕、等離子刻蝕機(jī)

反應(yīng)式離子刻蝕(RIE/ICP)系統(tǒng)及沉積(PECVD)系統(tǒng)

Trion始于一九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場(chǎng)提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積小、成本低而著稱(chēng)，且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，到簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、RIE等離子刻蝕機(jī)、微波等離子去膠機(jī)、plasma stripper

等離子刻蝕機(jī)

- 低損傷去膠系統(tǒng)

新式去膠系統(tǒng)的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通過(guò)兩套價(jià)格低廉、緊湊的多功能系統(tǒng)使這一關(guān)鍵問(wèn)題得到解決：Gemini和Apollo。利用ICP(電感耦合等離子)、微波和射頻偏置功率，可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據(jù)應(yīng)用要求，每套系統(tǒng)可以結(jié)合SST-Lightning 微波源(既可靠又沒(méi)有任何常見(jiàn)的微波調(diào)諧問(wèn)題) 或ICP 技術(shù)。

等離子刻蝕機(jī)

刻蝕速率高達(dá)6微米/分

高產(chǎn)量

等離子損傷低

自動(dòng)匹配單元

適用于100mm 到300mm 基片

設(shè)備占地面積小

價(jià)格具競(jìng)爭(zhēng)性

等離子刻蝕

刻蝕/沉積

Titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動(dòng)化、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)

包含：等離子刻蝕機(jī)、等離子去膠機(jī)、RIE等離子刻蝕機(jī)、微波等離子去膠機(jī)、plasma stripper