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科研級磁控濺射設備—MS-300品牌
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MS-300磁控濺射設備具有超高真空、單原子層沉積精度的特點，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設備標配3個2英寸超高真空陰極。滿足實驗室中科學研究的需求，維護簡單，運行穩(wěn)定。
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