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氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長(zhǎng)設(shè)備 立式
氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長(zhǎng)設(shè)備 立式

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

氮化鎵(GaN)HVPE單晶生長(zhǎng)設(shè)備 立式

品牌

山東力冠

產(chǎn)地

山東

樣本

暫無(wú)
山東力冠微電子裝備有限公司

高級(jí)會(huì)員

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第1年

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產(chǎn)品特點(diǎn)/Product Characteristics:

? 基礎(chǔ)工藝包

Basic process package

1.氮化鎵(GaN)單晶生長(zhǎng)尺寸: 2英寸

Gallium nitride (GaN) single crystal growth size: 2 inches

2.單晶生長(zhǎng)速率:≥50微米/小時(shí)

Single crystal growth rate:≥50 microns/hour

3.藍(lán)寶石襯底外延生長(zhǎng)氮化鎵(GaN)單晶層厚度: < 200微米


創(chuàng)新點(diǎn)

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
暫無(wú)評(píng)論!
公司動(dòng)態(tài)
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