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設備特點
適用于多層復合材料、ABF、EMC等材料的激光鉆孔
搭載HBC光路控制系統(tǒng),支持單脈沖能量和發(fā)數的精準控制
支持光斑整形,光斑尺寸可調
高精度平臺結構設計,搭載高速精密的直線電機模組和全閉環(huán)數控系統(tǒng)
搭載高分辨率的CCD影像定位技術
模塊化設計,可根據實際需求定制部件
自主開發(fā)軟件控制系統(tǒng)
暫無數據!
產品質量
售后服務
易用性
性價比
CVD 真空化學氣相沉積設備
晶圓表面顆粒物快速檢測系統(tǒng)(PDS)
馬爾文帕納科XRD系列晶向定位
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
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