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CAP-H2品牌
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江蘇樣本
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名稱 | CMP 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī) |
型號(hào) | CAP-H2 |
作業(yè)模式 | 干進(jìn)干出 |
適用工藝 | SiC 襯底拋光 |
對(duì)應(yīng)產(chǎn)品 | 4~8inch |
CMP table | 2 pcs |
Contour head | 分區(qū)壓力控制 |
公司成立于2024年，是一家集機(jī)械設(shè)計(jì)、電氣研制、軟件開發(fā)、精密制造于一體的裝備制造商。創(chuàng)生源制造基地位于江蘇.宿遷, 分別在無(wú)錫、宿遷、太原設(shè)立分公司及工程研發(fā)中心，先后獲得6項(xiàng)***、41項(xiàng)實(shí)用新型**、20項(xiàng)軟件著作權(quán)，同時(shí)公司通過(guò)了ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證、GJB9001C武器裝備質(zhì)量管理體系認(rèn)證、ISO14001環(huán)境管理體系認(rèn)證、ISO45001職業(yè)健康安全管理體系認(rèn)證，榮獲國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、江蘇省民營(yíng)科技企業(yè)等榮譽(yù)稱號(hào)。
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