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岡本OKAMOTO半自動CMP化學機械拋光機
岡本OKAMOTO半自動CMP化學機械拋光機

參考價格

面議

型號

SPP800S

品牌

產(chǎn)地

日本

樣本

暫無
一橋半導體科技（蘇州）有限公司

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 SPP800S 是半自動通用拋光型設備，不僅可以處理氧化層和金屬膜，而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型裝備有兩個拋光頭和一個定盤修正頭，可實現(xiàn)高的吞吐量。它具有獨特的軟件和觸摸屏，使用操作方便。


產(chǎn)品特點

 SPP800S 是半自動通用拋光型設備，不僅可以處理氧化層和金屬膜，而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型裝備有兩個拋光頭和一個定盤修正頭，可實現(xiàn)高的吞吐量。它具有獨特的軟件和觸摸屏，使用操作方便。



性能參數(shù)

項目參數(shù)

加工材料

硅晶片、電子部品、脆性材料

適用晶圓尺寸

3 - 8 英寸

設備尺寸

1380 (W) x 1210 (D)* x 1873 (H)

廠務條件

10KVA, 200V, 3 Phase, 50/60 Hz

壓縮空氣壓力

 ≧5.0 Kg/cm?

去離子水壓力1.0-1.5Kg/cm?
去離子水流量 5 升/分鐘
排氣量3m?/分鐘
冷卻水（真空泵用）壓力：2.0Kg/cm?
流量大于3 升/分鐘
冷卻水（拋光定盤冷卻系統(tǒng)用）2.0Kg/cm?
流量大于3 升/分鐘



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產(chǎn)品質量

10分

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10分

易用性

10分

性價比

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