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產(chǎn)品摘要

該磁控濺射系統(tǒng)的用戶群體為科研院所與高校實驗室，核心部件均采用歐美知名品牌，技術(shù)先進(jìn)，性能穩(wěn)定，自動化程度高可替代進(jìn)口。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點：

★兼容直流和射頻濺射源，濺射金屬、非金屬及化合物薄膜

★良好的薄膜均勻性和重復(fù)性，可沉積金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料，可拓展沉積多層膜及復(fù)合膜

★3個3英寸圓形靶槍，桿狀安裝，共焦向上濺射

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：850×1100×1900

★設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：400×400×380

★基片臺：**溫度 600℃控溫誤差±5℃

★真空極限：（5E﹣05）Pa

★抽速保壓：（8E﹣04）Pa≤30min保壓12小時≤8pa

★托盤均勻性優(yōu)于±3％~±5%

★濺射靶槍三個（2-3英寸）濺射尺寸2-4英寸