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旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀品牌
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簡單介紹：
旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
詳情介紹：
該設備主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
粉體包覆磁控鍍膜儀是通過粉體在濺射腔室內的旋轉，以達到粉體表面均勺包覆的效果。
腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。粉體包覆是指將一種或多種粉體顆粒投入到包覆設備中,通過物理或化學方法形成一層覆蓋在顆粒表面的物質。粉體包覆的目的可以是改變顆粒表面
的性質、增加顆粒的穩(wěn)定性、控制顆粒的釋放速率等。
產(chǎn)品名稱 | 多功能粉體包覆機 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH150-I-RF-Q | |
控制系統(tǒng) | 顯示模式 | 7英寸觸控屏 |
磁控濺射 | 靶材尺寸 | 2英寸 |
靶槍類型 | 標準磁場 | |
適合靶材 | 非磁性金屬靶材 | |
濺射類型 | 直流濺射 | |
濺射真空 | 0.5Pa | |
濺射速率 | 以銅為例：7nm/min | |
膜層厚度 | ≦1微米 | |
膜均勻性 | ±3% | |
樣品粒度 | zui佳尺寸范圍： | |
樣品總量 | ≦500g | |
烘烤系統(tǒng) | 烘烤溫度 | ≦500℃任意可設置 |
升溫速率 | ≦50℃/S任意可設置 | |
控溫精度 | ±1℃ | |
控溫模式 | 可編程，程序控溫 | |
旋轉升降 | 旋轉速度 | 0-100RPM任意可設置 |
升降角度 | 0-60°任意可設置 | |
等離子體 | 射頻功率 | 150W(另有：300W,500W,600W,1000W,1500W多種規(guī)格可選購） |
功能效用 | 粉體包覆前，可先對粉體進行表面刻蝕，改性，增強包覆層附著力。 | |
供氣系統(tǒng) | 氣體種類 | 可通：氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體 |
氣體控制 | 采用質量流量控制器對氣體進行流量控制、氣體計量。 | |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 通常為雙極旋片泵，客戶可根據(jù)需要選購其它類型前級泵。 |
分子泵 | 通常為國產(chǎn)分子泵，客戶可根據(jù)需要選購其它類型分子泵。 | |
真空計 | 復合真空計，量程為：10-5Pa～105Pa | |
水冷機組 | zui大流量10L-16L，zui大揚程10-25M | |
供電電源 | AC220V/50Hz | |
設備尺寸 | 1800*620*1050 | |
包裝尺寸 | 1900*720*1150 | |
包裝重量 | 200kg | |
隨機配件 | 1、說明書1本 | |
2、隨機配件1套 | ||
3、配件清單1份 | ||
暫無數(shù)據(jù)！
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