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設備特點

成膜好:采用懸浮鍍膜技術或貼輥鍍膜技術，基材表面不易劃傷，膜層均勻。合理的冷卻結構設計，避免基材鍍膜過程中變形:

結構新:錯位式裝靶結構或包圍式裝靶結構設計;

適用廣:可配備不同的磁控陰極，如平面靶、圓柱靶:可適用多種柔性基材。

應用領域

設備主要采用磁控濺射鍍膜工藝，適合在柔性卷材，如:PET、BOPP PEN、PI、PC、PE等有機薄膜或纖維布料、紙卷、海綿、金屬卷材、超薄玻璃等，沉積功能性或裝飾性等膜層?？梢藻冎频哪影?Cu、Ag、Cr、Ni、Au、Si、ITO、C等導電膜或者NiCr、NiCu、InSn等合金膜或者Si0z、Nbz0,、Al0:等介質膜，可以實現(xiàn)單層或多層功能性或裝飾性膜層的制備。設備可以應用于制備撓性覆銅板、導電布、電磁屏蔽膜、鋰 電池復合銅箔、透明導電膜、散熱膜、高反膜等產函。