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Gigaphoton深紫外線準(zhǔn)分子激光器
Gigaphoton深紫外線準(zhǔn)分子激光器

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產(chǎn)地

日本

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新耕(上海)貿(mào)易有限公司

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儀器簡(jiǎn)介:

應(yīng)用:

◆ASML、Nikon、Canon光刻機(jī)等。

技術(shù)參數(shù):

日本Gigaphoton公司是全球頂尖的深紫外光刻機(jī)(DUV Scanner)的光源供應(yīng)商,其研發(fā)并生產(chǎn)的KrF(248nm)準(zhǔn)分子激光與ArF(193nm)準(zhǔn)分子激光代表了當(dāng)今半導(dǎo)體業(yè)界的*前沿技術(shù)。

主要特點(diǎn):

◆波長(zhǎng)控制技術(shù):通過使用Piezo控制技術(shù)使得波長(zhǎng)控制響應(yīng)時(shí)間大為縮短;

◆腔體壽命延長(zhǎng):通過改進(jìn)腔體電極的材料,使得腔體壽命進(jìn)一步延長(zhǎng);

◆KrF:技術(shù)成熟,穩(wěn)定性高(Uptime 達(dá)99.9%),耗材壽命長(zhǎng),現(xiàn)已成為各大半導(dǎo)體廠商標(biāo)準(zhǔn)配置;

◆ArF:設(shè)計(jì)先進(jìn),穩(wěn)定性高,CoC(運(yùn)行成本)與CoD(停機(jī)維護(hù)成本)都達(dá)到了業(yè)界**水平;

◆ArF Immersion:ArF 浸潤(rùn)式是目前可量產(chǎn)的光刻技術(shù)極限。Gigaphoton 是一個(gè)被半導(dǎo)體廠商和光刻機(jī)廠商認(rèn)可的光源供應(yīng)商,也是*早進(jìn)入量產(chǎn)階段的廠商。其設(shè)計(jì)先進(jìn),具有波長(zhǎng)和帶寬穩(wěn)定控制技術(shù)、耗材復(fù)用及長(zhǎng)壽命技術(shù)、化學(xué)氣體長(zhǎng)周期使用等一系列提高性能與穩(wěn)定性并降低運(yùn)行成本的核心技術(shù)。ArF Immersion機(jī)臺(tái)率先使用了帶寬控制(BCM)技術(shù),能夠穩(wěn)定的控制E95,減少CD Error的出現(xiàn)。

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